A* 其他分析仪器

蒸镀系统 *样品架夹具可以容纳1个120 mm x 120 mm的基片。可兼容32片以上15 mm x 15 mm的基片。*基片托下方有固定的掩膜板（根据客户要求制作），尺寸公差±0.05mm。*共有8个有机蒸发源，8个蒸发源的位置按照R-D-matin-ME系列舟蒸发源设计。*靠近基片盘附件有温度检测，实时检测蒸镀过程中基片附件的温度。*采用InficonSQC-310C膜厚仪，膜厚精度误差在正负0.1A/S，可显示2个膜厚探头的读数。 @可蒸金属：以Ag为标准，有机物：以NPB或Alq3为标准： 蒸镀速率0.1-10A/s稳定可控，蒸镀速率波动≤±0.1A/S。 @基片厚度均匀性：±5%,测试方法：多点测量：（最大值-最小值）/（最大值+最小值）,单片尺寸：不大于120 mm x 120 mm。*极限真空度：系统洁净、空置时低于2.5×10-5 Pa；从常压到5×10-4pa不超过15min（充氮气保护，从手套箱内操作）。*带有旁抽系统，可以在不关闭分子泵的条件下，进行样品及材料的更换。 溅射系统：腔体极限真空小于等于4*10-5pa，从常压到5.0*10-4pa小于15min(手套箱氮气环境)，*溅射靶采用水冷,以防止溅射过程中温度过高导致磁铁消磁，*溅射靶可安装靶材大小: 2.5英寸,厚度2-5mm;*溅射靶安装在真空腔体底部，共焦于基片盘，对基片盘共焦溅射；*溅射靶的溅射角度可调，10-30度。*溅射均匀性：优于±5%，*真空系统采用超高真空插板阀+蝶阀+分子泵+机械泵+旁抽系统组成；*分子泵电源含有过流,过压,过热等报警保护; *600W射频电源1套,13.56MHZ,自动匹配。500W直流电源1套,可实现2只靶同时共溅射功能。提供安装、培训、调试、验收、质保期保障等全套服务

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蒸镀系统 *样品架夹具可以容纳1个120 mm x 120 mm的基片。可兼容32片以上15 mm x 15 mm的基片。*基片托下方有固定的掩膜板（根据客户要求制作），尺寸公差±0.05mm。*共有8个有机蒸发源，8个蒸发源的位置按照R-D-matin-ME系列舟蒸发源设计。*靠近基片盘附件有温度检测，实时检测蒸镀过程中基片附件的温度。*采用InficonSQC-310C膜厚仪，膜厚精度误差在正负0.1A/S，可显示2个膜厚探头的读数。 @可蒸金属：以Ag为标准，有机物：以NPB或Alq3为标准： 蒸镀速率0.1-10A/s稳定可控，蒸镀速率波动≤±0.1A/S。 @基片厚度均匀性：±5%,测试方法：多点测量：（最大值-最小值）/（最大值+最小值）,单片尺寸：不大于120 mm x 120 mm。*极限真空度：系统洁净、空置时低于2.5×10-5 Pa；从常压到5×10-4pa不超过15min（充氮气保护，从手套箱内操作）。*带有旁抽系统，可以在不关闭分子泵的条件下，进行样品及材料的更换。 溅射系统：腔体极限真空小于等于4*10-5pa，从常压到5.0*10-4pa小于15min(手套箱氮气环境)，*溅射靶采用水冷,以防止溅射过程中温度过高导致磁铁消磁，*溅射靶可安装靶材大小: 2.5英寸,厚度2-5mm;*溅射靶安装在真空腔体底部，共焦于基片盘，对基片盘共焦溅射；*溅射靶的溅射角度可调，10-30度。*溅射均匀性：优于±5%，*真空系统采用超高真空插板阀+蝶阀+分子泵+机械泵+旁抽系统组成；*分子泵电源含有过流,过压,过热等报警保护; *600W射频电源1套,13.56MHZ,自动匹配。500W直流电源1套,可实现2只靶同时共溅射功能。提供安装、培训、调试、验收、质保期保障等全套服务