(略) 制备设备采购项目所在采购意向：华南理工大学2022年11月政府采购意向采购单位：华南理工大学采购项目名称： (略) 制备设备采购预算金额：*.*万元(人民币)采购品目：
A*电子工业专用生产设备采购需求概况 ：
(略) 建设先进的微纳电子器 (略) ，拟采购微纳电子器件、 (略) 制造实验研究的设备43台（套），其中包括并不仅限于如下设备： 1，半自动双面对准光刻机，支持基片最大直径为150mm，接触式曝光程序。X-和Y-向位移精度在0.1μm以下。真空模式下曝光分辨率达到0.7μm。同时采购 等离子去胶机及旋涂机、热板、PDMS等周边设备 2，无掩模激光直写光刻机（分辨率10nm，刻写面积达到200 x 200 mm2）、电子束光刻系统（500um视场，线宽精度小于5 nm，1.7 nm 电子束直径&邻近效应小化 @125 kV） 3，反应离子刻蚀机3台套、支持金属、半导体、介质薄膜的高精度干法刻蚀。 4，超高真空电子束蒸发、多靶溅射镀膜系统（6靶及以上）、PECVD、APELD，PLD等薄膜制备设备 9台套 5，MBE、MOCVD 外延设备 2 台套 6，离子注入机、快速退火炉、扩散炉、高温退火炉（支持2000℃以上工艺） 7，柔性器件制造3D喷墨打印机 8，聚焦离子束处理系统预计采购时间：2022-11备注：

(略) 制备设备采购项目所在采购意向：华南理工大学2022年11月政府采购意向采购单位：华南理工大学采购项目名称： (略) 制备设备采购预算金额：*.*万元(人民币)采购品目：
A*电子工业专用生产设备采购需求概况 ：
(略) 建设先进的微纳电子器 (略) ，拟采购微纳电子器件、 (略) 制造实验研究的设备43台（套），其中包括并不仅限于如下设备： 1，半自动双面对准光刻机，支持基片最大直径为150mm，接触式曝光程序。X-和Y-向位移精度在0.1μm以下。真空模式下曝光分辨率达到0.7μm。同时采购 等离子去胶机及旋涂机、热板、PDMS等周边设备 2，无掩模激光直写光刻机（分辨率10nm，刻写面积达到200 x 200 mm2）、电子束光刻系统（500um视场，线宽精度小于5 nm，1.7 nm 电子束直径&邻近效应小化 @125 kV） 3，反应离子刻蚀机3台套、支持金属、半导体、介质薄膜的高精度干法刻蚀。 4，超高真空电子束蒸发、多靶溅射镀膜系统（6靶及以上）、PECVD、APELD，PLD等薄膜制备设备 9台套 5，MBE、MOCVD 外延设备 2 台套 6，离子注入机、快速退火炉、扩散炉、高温退火炉（支持2000℃以上工艺） 7，柔性器件制造3D喷墨打印机 8，聚焦离子束处理系统预计采购时间：2022-11备注：