A*其他专用仪器仪表

名称：激光直写曝光系统主要功能：该设备为高精密无掩模激光直写系统，主要利用无掩模激光直写，将设计图形直接曝光到涂覆有光刻胶的衬底材料上，具有自动对准套刻功能和超快速的曝光速度。光源为375nm激光光源。最小结构尺寸0.6微米。衬底尺寸3X3平方毫米至6“X6”。衬底厚度0-12毫米。微纳器件的高质量高精度加工生产，对于低维物理器件的进一步研究发展和产业化具有重要意义。该设备无需用掩膜加工，大幅节约了掩模加工费用，灵活性高，加工精度高、面积大、速度快，能为重大科研任 (略) 支撑。设备拟实行开放共享服务，有效提高设备的利用率，为校内外其他低维器件领域的研究提 (略) 。采购数量：1套质量：满足国家相关质量标准或原产地质量标准。服务及时限：对相关的技术问题能在48小时内及时进行响应，并通过电话、传真、邮件等形式及时进行指导加以排除；若通过电话、传真、邮件等在5个工作日内仍不能解决问题：简单问题供方国内工程师3个工作日上门检修，复杂问题供方国外工程师3-6周内上门检修。

无

A*其他专用仪器仪表

名称：激光直写曝光系统主要功能：该设备为高精密无掩模激光直写系统，主要利用无掩模激光直写，将设计图形直接曝光到涂覆有光刻胶的衬底材料上，具有自动对准套刻功能和超快速的曝光速度。光源为375nm激光光源。最小结构尺寸0.6微米。衬底尺寸3X3平方毫米至6“X6”。衬底厚度0-12毫米。微纳器件的高质量高精度加工生产，对于低维物理器件的进一步研究发展和产业化具有重要意义。该设备无需用掩膜加工，大幅节约了掩模加工费用，灵活性高，加工精度高、面积大、速度快，能为重大科研任 (略) 支撑。设备拟实行开放共享服务，有效提高设备的利用率，为校内外其他低维器件领域的研究提 (略) 。采购数量：1套质量：满足国家相关质量标准或原产地质量标准。服务及时限：对相关的技术问题能在48小时内及时进行响应，并通过电话、传真、邮件等形式及时进行指导加以排除；若通过电话、传真、邮件等在5个工作日内仍不能解决问题：简单问题供方国内工程师3个工作日上门检修，复杂问题供方国外工程师3-6周内上门检修。

无