上海科技大学2022年11月政府采购意向-双光子3D微纳光刻系统
上海科技大学2022年11月政府采购意向-双光子3D微纳光刻系统
序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 预算金额(元) | 预计采购时间(填写到月) | 备注 |
---|---|---|---|---|---|
1 | 双光子3D微纳光刻系统 | 双光子3D微纳光刻系统;主要功能及目标:实现三维立体光刻;数量:1套;为满足科研需求:1.具有宽广的可加工光敏材料选择的自由度,包含:SU-8, Ormocere, PEG-DA, AZ系列, As2S3, IP-L 780, IP-G 780等;2.二维平面可加工范围最小须达 100 x 100 mm2,横向最小三维线宽 <200 nm,横向最小二维线宽 <160 nm,结构垂直方向最佳分辨率,最小间格须达1000 nm 以下;3.振镜扫描模式最高写入速度须达10mm/sec以上;4.具备自动侦测光刻胶和衬底界面的功能,如果光刻胶和界面的折射率区别较大的话,在使用高数值孔径的物镜的条件下,能找到的界面的精度需要达到±100nm;5.对衬底的倾斜进行自动检测并相应的进行坐标转换以维持所设计器件不失真;6.能够自动调节运动速度,特别是在转弯的时候,以达到维持样品加工速度的同时达到很高的保真度。 | * | 2022-12 |
序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 预算金额(元) | 预计采购时间(填写到月) | 备注 |
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1 | 双光子3D微纳光刻系统 | 双光子3D微纳光刻系统;主要功能及目标:实现三维立体光刻;数量:1套;为满足科研需求:1.具有宽广的可加工光敏材料选择的自由度,包含:SU-8, Ormocere, PEG-DA, AZ系列, As2S3, IP-L 780, IP-G 780等;2.二维平面可加工范围最小须达 100 x 100 mm2,横向最小三维线宽 <200 nm,横向最小二维线宽 <160 nm,结构垂直方向最佳分辨率,最小间格须达1000 nm 以下;3.振镜扫描模式最高写入速度须达10mm/sec以上;4.具备自动侦测光刻胶和衬底界面的功能,如果光刻胶和界面的折射率区别较大的话,在使用高数值孔径的物镜的条件下,能找到的界面的精度需要达到±100nm;5.对衬底的倾斜进行自动检测并相应的进行坐标转换以维持所设计器件不失真;6.能够自动调节运动速度,特别是在转弯的时候,以达到维持样品加工速度的同时达到很高的保真度。 | * | 2022-12 |
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