浙江大学2022年12月政府采购意向-等离子体增强化学气相沉积系统-A02052402真空应用设备-预算金额300.000000万元(人民币)

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浙江大学2022年12月政府采购意向-等离子体增强化学气相沉积系统-A02052402真空应用设备-预算金额300.000000万元(人民币)

等离子体增强化学气相沉积系统
项目所在采购意向:浙江大学2022年12月政府采购意向
采购单位:浙江大学
采购项目名称:等离子体增强化学气相沉积系统
预算金额:300.*万元(人民币)
采购品目:
A* 真空应用设备
采购需求概况:
拟采购一台等离子体增强气相化学沉积系统,主要用于氮化硅、氧化硅及非晶硅等薄膜的材料生长,具有基础工艺温度低、沉积速率快、沉积的薄膜电绝缘性好以及沉积的薄膜应力小不易龟裂等诸多优点。在技术性能上达到:1)配置5%SiH4/95%N2,N2O,NH3,N2,CF4, (略) 工艺气体;2)1KW的13.56MHz射频电源;反应压力从500mTorr~3Torr可控;3)热台衬底加热温度从100度到350度可调;4)在8英寸(200mm直径) 衬底内,沉积氮化硅和氧化硅薄膜片内均匀性<3%, 每次沉积之间的均匀性<3%;薄膜633nm折射率从1.465~3.00可调,薄膜应力从压应力到张应力可调。货期请尽量控制在3-6个月以内。
预计采购时间:2022-12
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

,浙江
等离子体增强化学气相沉积系统
项目所在采购意向:浙江大学2022年12月政府采购意向
采购单位:浙江大学
采购项目名称:等离子体增强化学气相沉积系统
预算金额:300.*万元(人民币)
采购品目:
A* 真空应用设备
采购需求概况:
拟采购一台等离子体增强气相化学沉积系统,主要用于氮化硅、氧化硅及非晶硅等薄膜的材料生长,具有基础工艺温度低、沉积速率快、沉积的薄膜电绝缘性好以及沉积的薄膜应力小不易龟裂等诸多优点。在技术性能上达到:1)配置5%SiH4/95%N2,N2O,NH3,N2,CF4, (略) 工艺气体;2)1KW的13.56MHz射频电源;反应压力从500mTorr~3Torr可控;3)热台衬底加热温度从100度到350度可调;4)在8英寸(200mm直径) 衬底内,沉积氮化硅和氧化硅薄膜片内均匀性<3%, 每次沉积之间的均匀性<3%;薄膜633nm折射率从1.465~3.00可调,薄膜应力从压应力到张应力可调。货期请尽量控制在3-6个月以内。
预计采购时间:2022-12
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

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