天津大学2022年11至12月政府采购意向-超高真空磁控溅射与电子束蒸发联合镀膜系统-A02052402真空应用设备-预算金额350.000000万元(人民币)
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天津大学2022年11至12月政府采购意向-超高真空磁控溅射与电子束蒸发联合镀膜系统-A02052402真空应用设备-预算金额350.000000万元(人民币)
| 超高真空磁控溅射与电子束蒸发联合镀膜系统 | |
| 项目所在采购意向： | 天津大学2022年11至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 天津大学 |
| 采购项目名称： | 超高真空磁控溅射与电子束蒸发联合镀膜系统 |
| 预算金额： | 350.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*真空应用设备 |
| 采购需求概况： | 设备用途：用于在超高真空下沉积铌、氮化铌、铝、钛、氧化铝等多种超导金属、正常金属及氧化物薄膜，服务于凝聚态物理、材料物理与化学等学科方向。技术指标：(1)真空腔室：系统配备1个磁控溅射真空室，1个电子束蒸发真空室，1个预真空室。上述3个真空室通过真空传送系统互连。(2)腔室真空度：磁控溅射真空室 < 5E-10 Torr；电子束蒸发真空室 < 5E-9 Torr；预真空室 < 5E-6 Torr。(3)溅射靶数目：>=4个。(4)溅射电源类型：同时配备DC和RF溅射电源；(5)样品台加热及冷却：磁控溅射样品台可加热至800摄氏度；电子束蒸发样品台支持水冷。(6)样品台旋转及倾斜：磁控溅射腔体的样品台可旋转，电子束蒸发真空室的样品台可旋转及倾斜。(7)电子束蒸发源加速电压：8kV。(8)电子束蒸发坩埚数量：>=4个。(9)预真空室配备Ar等离子清洁装置。 |
| 预计采购时间： | 2022-11 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 超高真空磁控溅射与电子束蒸发联合镀膜系统 | |
| 项目所在采购意向： | 天津大学2022年11至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 天津大学 |
| 采购项目名称： | 超高真空磁控溅射与电子束蒸发联合镀膜系统 |
| 预算金额： | 350.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*真空应用设备 |
| 采购需求概况： | 设备用途：用于在超高真空下沉积铌、氮化铌、铝、钛、氧化铝等多种超导金属、正常金属及氧化物薄膜，服务于凝聚态物理、材料物理与化学等学科方向。技术指标：(1)真空腔室：系统配备1个磁控溅射真空室，1个电子束蒸发真空室，1个预真空室。上述3个真空室通过真空传送系统互连。(2)腔室真空度：磁控溅射真空室 < 5E-10 Torr；电子束蒸发真空室 < 5E-9 Torr；预真空室 < 5E-6 Torr。(3)溅射靶数目：>=4个。(4)溅射电源类型：同时配备DC和RF溅射电源；(5)样品台加热及冷却：磁控溅射样品台可加热至800摄氏度；电子束蒸发样品台支持水冷。(6)样品台旋转及倾斜：磁控溅射腔体的样品台可旋转，电子束蒸发真空室的样品台可旋转及倾斜。(7)电子束蒸发源加速电压：8kV。(8)电子束蒸发坩埚数量：>=4个。(9)预真空室配备Ar等离子清洁装置。 |
| 预计采购时间： | 2022-11 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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