TX-高精度无掩膜光刻机招标预告
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TX-高精度无掩膜光刻机招标预告
| TX-高精度无掩膜光刻机 | |
| 项目所在采购意向： | 华中科技大学2022年11至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 华中科技大学 |
| 采购项目名称： | TX-高精度无掩膜光刻机 |
| 预算金额： | 500.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*其他电工电子专用生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 购买高精度无掩膜光刻机一台，无掩膜激光直写系统具有无掩模板直写系统的灵活性和高书写速度、高分辨率和低成本的特点。可靠性高，操作简便，是微电子、半导体研究中代替传统光刻工艺的理想工具。主要性能指标： 1.最大样品尺寸 8英寸； 2.最小线宽 ≤0.6/1.0/2.0μm； 3.套刻对准精度 ≤100/250/400nm； 4.线宽均匀性 ≤70/130/180nm； 5.直写速度 ≥13/150/600 (mm2/min)； 6.灰度曝光直写阶数 ≥256级； |
| 预计采购时间： | 2022-12 |
| 备注： | |
| TX-高精度无掩膜光刻机 | |
| 项目所在采购意向： | 华中科技大学2022年11至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 华中科技大学 |
| 采购项目名称： | TX-高精度无掩膜光刻机 |
| 预算金额： | 500.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*其他电工电子专用生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 购买高精度无掩膜光刻机一台，无掩膜激光直写系统具有无掩模板直写系统的灵活性和高书写速度、高分辨率和低成本的特点。可靠性高，操作简便，是微电子、半导体研究中代替传统光刻工艺的理想工具。主要性能指标： 1.最大样品尺寸 8英寸； 2.最小线宽 ≤0.6/1.0/2.0μm； 3.套刻对准精度 ≤100/250/400nm； 4.线宽均匀性 ≤70/130/180nm； 5.直写速度 ≥13/150/600 (mm2/min)； 6.灰度曝光直写阶数 ≥256级； |
| 预计采购时间： | 2022-12 |
| 备注： | |
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