涂胶显影机招标预告
发送至邮箱
涂胶显影机招标预告
| 涂胶显影机 | |
| 项目所在采购意向： | 电子科技大学2022年11月政府采购意向 |
| 采购单位： | 电子科技大学 |
| 采购项目名称： | 涂胶显影机 |
| 预算金额： | 1200.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*电子工业专用生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 设备与深紫外光刻机配套联机使用，应用于0.18μm和0.13μm标准半导 (略) 量产产品制造过程中有源区光刻、多晶光刻、接触孔光刻、金属光刻等光刻层次的涂胶显影。主要包括涂胶、烘烤、显影等流程控制模块及与光刻机联机工作的模块。要求：1）适用硅片尺寸：200mm（八英寸），SEMI；2）涂胶膜厚均匀性：3sigma小于10nm；3）显影条宽均匀性：（0.18μm条宽测试）3sigma小于6nm；4）腔体氨气浓度：<1ppb（FAB环境小于100ppb条件下）；5）PHP热板：50～200℃(±0.3℃)；6）产能：40WPH；7）其他：提供设备的BKM工艺菜单调试，与Nikon光刻机联机作业。 |
| 预计采购时间： | 2022-11 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 涂胶显影机 | |
| 项目所在采购意向： | 电子科技大学2022年11月政府采购意向 |
| 采购单位： | 电子科技大学 |
| 采购项目名称： | 涂胶显影机 |
| 预算金额： | 1200.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*电子工业专用生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 设备与深紫外光刻机配套联机使用，应用于0.18μm和0.13μm标准半导 (略) 量产产品制造过程中有源区光刻、多晶光刻、接触孔光刻、金属光刻等光刻层次的涂胶显影。主要包括涂胶、烘烤、显影等流程控制模块及与光刻机联机工作的模块。要求：1）适用硅片尺寸：200mm（八英寸），SEMI；2）涂胶膜厚均匀性：3sigma小于10nm；3）显影条宽均匀性：（0.18μm条宽测试）3sigma小于6nm；4）腔体氨气浓度：<1ppb（FAB环境小于100ppb条件下）；5）PHP热板：50～200℃(±0.3℃)；6）产能：40WPH；7）其他：提供设备的BKM工艺菜单调试，与Nikon光刻机联机作业。 |
| 预计采购时间： | 2022-11 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
招投标大数据
最近搜索
无
热门搜索
无
