精密光学调制薄膜制备系统招标预告
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精密光学调制薄膜制备系统招标预告
| 精密光学调制薄膜制备系统 | |
| 项目所在采购意向： | 电子科技大学2022年11月政府采购意向 |
| 采购单位： | 电子科技大学 |
| 采购项目名称： | 精密光学调制薄膜制备系统 |
| 预算金额： | 440.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A* 真空应用设备 |
| 采购需求概况 ： | 能在低于6.6x10-5Pa的超高真空环境下，一次完成由4种不同材料，面积大于1平方米的高质量、厚度均匀的薄膜异质结样品的制备。所需满足的重要性能指标要求包括：（1）真空度：系统极限真空度为6.6x10-5 Pa，真空室充干燥氮气开门再从大气状态重新抽到真空度≤3×10-3 Pa的时间不超过35分钟；（2）离子源：镀膜用阳极层离子源1套，长度为736mm，用于镀膜前的清洗及镀膜辅助沉积，其工作气体可为Ar和Ar+O2或Ar+N2，最小工作压力为2x10-2 Pa。另外配置4套灯丝离子源，用于等离子体增强磁控溅射，其工作气体可为Ar或Ar+N2。离子源可以承受350℃的工作温度；（3）磁控溅射电源和偏压源：配置进口品牌磁控溅射镀膜用电源4台，其中中频电源1台（15 kW），直流脉冲电源1台（15 kW），射频电源2台（5 kW）；配置进口品牌脉冲偏压电源（20 kW）一台；（4）加热烘烤系统：真空室内采用烘烤方式对工件进行加热，加热器温度最高为350℃，温度控制误差≤±1℃；（5）磁控溅射靶枪：数量为4个，垂直安装，靶尺寸为145 mm×846mm，厚度为10mm；控靶设置增强电磁场；（6）制备薄膜厚度误差：在750 mm ×750 mm范围内≤±10%。 |
| 预计采购时间： | 2022-11 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 精密光学调制薄膜制备系统 | |
| 项目所在采购意向： | 电子科技大学2022年11月政府采购意向 |
| 采购单位： | 电子科技大学 |
| 采购项目名称： | 精密光学调制薄膜制备系统 |
| 预算金额： | 440.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A* 真空应用设备 |
| 采购需求概况 ： | 能在低于6.6x10-5Pa的超高真空环境下，一次完成由4种不同材料，面积大于1平方米的高质量、厚度均匀的薄膜异质结样品的制备。所需满足的重要性能指标要求包括：（1）真空度：系统极限真空度为6.6x10-5 Pa，真空室充干燥氮气开门再从大气状态重新抽到真空度≤3×10-3 Pa的时间不超过35分钟；（2）离子源：镀膜用阳极层离子源1套，长度为736mm，用于镀膜前的清洗及镀膜辅助沉积，其工作气体可为Ar和Ar+O2或Ar+N2，最小工作压力为2x10-2 Pa。另外配置4套灯丝离子源，用于等离子体增强磁控溅射，其工作气体可为Ar或Ar+N2。离子源可以承受350℃的工作温度；（3）磁控溅射电源和偏压源：配置进口品牌磁控溅射镀膜用电源4台，其中中频电源1台（15 kW），直流脉冲电源1台（15 kW），射频电源2台（5 kW）；配置进口品牌脉冲偏压电源（20 kW）一台；（4）加热烘烤系统：真空室内采用烘烤方式对工件进行加热，加热器温度最高为350℃，温度控制误差≤±1℃；（5）磁控溅射靶枪：数量为4个，垂直安装，靶尺寸为145 mm×846mm，厚度为10mm；控靶设置增强电磁场；（6）制备薄膜厚度误差：在750 mm ×750 mm范围内≤±10%。 |
| 预计采购时间： | 2022-11 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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