厦门理工学院2022年11月至12月政府采购意向
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厦门理工学院2022年11月至12月政府采购意向
为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕10号）等有关规定，现将（ (略) ） 2022 年 11 （至）12 月采购意向公开如下：
| 序号 | 采购单位 | 采购项目名称 | 采购品目 | 采购需求概况 | 预算金额(万元) | 预计采购日期 | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | (略) | 半导体工艺设备 | [A*]电子工业专用生产设备 | 半导体工艺设备中的光刻机、薄膜沉积系统、旋转涂膜机、管式炉和烘箱等是光刻工艺的主要设备。激光直写光刻机主要用于激光直写光刻，可直接对衬底上的光刻胶进行直写，对光敏材料进行图案化加工，从而实现有机半导体的图案，可以制作掩膜版，具有三维灰阶光刻功能；可应用于光学器件 DOE、微光学图形、柔性电子、掩膜版、光学图像、MEMS 等图形化微纳加工。 | 184 | 2022-12 | 无 |
| 2 | (略) | 半导体工艺设备 | [A*]真空应用设备 | 半导体工艺设备中的光刻机、薄膜沉积系统、旋转涂膜机、管式炉和烘箱等是光刻工艺的主要设备。激光直写光刻机主要用于激光直写光刻，可直接对衬底上的光刻胶进行直写，对光敏材料进行图案化加工，从而实现有机半导体的图案，可以制作掩膜版，具有三维灰阶光刻功能；可应用于光学器件 DOE、微光学图形、柔性电子、掩膜版、光学图像、MEMS 等图形化微纳加工。 | 80 | 2022-12 | 无 |
| 3 | (略) | 半导体工艺设备 | [A*]电子工业专用生产设备 | 半导体工艺设备中的光刻机、薄膜沉积系统、旋转涂膜机、管式炉和烘箱等是光刻工艺的主要设备。激光直写光刻机主要用于激光直写光刻，可直接对衬底上的光刻胶进行直写，对光敏材料进行图案化加工，从而实现有机半导体的图案，可以制作掩膜版，具有三维灰阶光刻功能；可应用于光学器件 DOE、微光学图形、柔性电子、掩膜版、光学图像、MEMS 等图形化微纳加工。 | 6 | 2022-12 | 无 |
| 4 | (略) | 半导体工艺设备 | [A*]工业电热设备（电炉） | 半导体工艺设备中的光刻机、薄膜沉积系统、旋转涂膜机、管式炉和烘箱等是光刻工艺的主要设备。激光直写光刻机主要用于激光直写光刻，可直接对衬底上的光刻胶进行直写，对光敏材料进行图案化加工，从而实现有机半导体的图案，可以制作掩膜版，具有三维灰阶光刻功能；可应用于光学器件 DOE、微光学图形、柔性电子、掩膜版、光学图像、MEMS 等图形化微纳加工。 | 8 | 2022-12 | 无 |
| 5 | (略) | 半导体工艺设备 | [A*]工业电热设备（电炉） | 半导体工艺设备中的光刻机、薄膜沉积系统、旋转涂膜机、管式炉和烘箱等是光刻工艺的主要设备。激光直写光刻机主要用于激光直写光刻，可直接对衬底上的光刻胶进行直写，对光敏材料进行图案化加工，从而实现有机半导体的图案，可以制作掩膜版，具有三维灰阶光刻功能；可应用于光学器件 DOE、微光学图形、柔性电子、掩膜版、光学图像、MEMS 等图形化微纳加工。 | 2 | 2022-12 | 无 |
| 6 | (略) | 半导体工艺设备 | [A*]容器清洗机械 | 半导体工艺设备中的光刻机、薄膜沉积系统、旋转涂膜机、管式炉和烘箱等是光刻工艺的主要设备。激光直写光刻机主要用于激光直写光刻，可直接对衬底上的光刻胶进行直写，对光敏材料进行图案化加工，从而实现有机半导体的图案，可以制作掩膜版，具有三维灰阶光刻功能；可应用于光学器件 DOE、微光学图形、柔性电子、掩膜版、光学图像、MEMS 等图形化微纳加工。 | 20 | 2022-12 | 无 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
(略)
发布时间：2022-11-15
为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕10号）等有关规定，现将（ (略) ） 2022 年 11 （至）12 月采购意向公开如下：
| 序号 | 采购单位 | 采购项目名称 | 采购品目 | 采购需求概况 | 预算金额(万元) | 预计采购日期 | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | (略) | 半导体工艺设备 | [A*]电子工业专用生产设备 | 半导体工艺设备中的光刻机、薄膜沉积系统、旋转涂膜机、管式炉和烘箱等是光刻工艺的主要设备。激光直写光刻机主要用于激光直写光刻，可直接对衬底上的光刻胶进行直写，对光敏材料进行图案化加工，从而实现有机半导体的图案，可以制作掩膜版，具有三维灰阶光刻功能；可应用于光学器件 DOE、微光学图形、柔性电子、掩膜版、光学图像、MEMS 等图形化微纳加工。 | 184 | 2022-12 | 无 |
| 2 | (略) | 半导体工艺设备 | [A*]真空应用设备 | 半导体工艺设备中的光刻机、薄膜沉积系统、旋转涂膜机、管式炉和烘箱等是光刻工艺的主要设备。激光直写光刻机主要用于激光直写光刻，可直接对衬底上的光刻胶进行直写，对光敏材料进行图案化加工，从而实现有机半导体的图案，可以制作掩膜版，具有三维灰阶光刻功能；可应用于光学器件 DOE、微光学图形、柔性电子、掩膜版、光学图像、MEMS 等图形化微纳加工。 | 80 | 2022-12 | 无 |
| 3 | (略) | 半导体工艺设备 | [A*]电子工业专用生产设备 | 半导体工艺设备中的光刻机、薄膜沉积系统、旋转涂膜机、管式炉和烘箱等是光刻工艺的主要设备。激光直写光刻机主要用于激光直写光刻，可直接对衬底上的光刻胶进行直写，对光敏材料进行图案化加工，从而实现有机半导体的图案，可以制作掩膜版，具有三维灰阶光刻功能；可应用于光学器件 DOE、微光学图形、柔性电子、掩膜版、光学图像、MEMS 等图形化微纳加工。 | 6 | 2022-12 | 无 |
| 4 | (略) | 半导体工艺设备 | [A*]工业电热设备（电炉） | 半导体工艺设备中的光刻机、薄膜沉积系统、旋转涂膜机、管式炉和烘箱等是光刻工艺的主要设备。激光直写光刻机主要用于激光直写光刻，可直接对衬底上的光刻胶进行直写，对光敏材料进行图案化加工，从而实现有机半导体的图案，可以制作掩膜版，具有三维灰阶光刻功能；可应用于光学器件 DOE、微光学图形、柔性电子、掩膜版、光学图像、MEMS 等图形化微纳加工。 | 8 | 2022-12 | 无 |
| 5 | (略) | 半导体工艺设备 | [A*]工业电热设备（电炉） | 半导体工艺设备中的光刻机、薄膜沉积系统、旋转涂膜机、管式炉和烘箱等是光刻工艺的主要设备。激光直写光刻机主要用于激光直写光刻，可直接对衬底上的光刻胶进行直写，对光敏材料进行图案化加工，从而实现有机半导体的图案，可以制作掩膜版，具有三维灰阶光刻功能；可应用于光学器件 DOE、微光学图形、柔性电子、掩膜版、光学图像、MEMS 等图形化微纳加工。 | 2 | 2022-12 | 无 |
| 6 | (略) | 半导体工艺设备 | [A*]容器清洗机械 | 半导体工艺设备中的光刻机、薄膜沉积系统、旋转涂膜机、管式炉和烘箱等是光刻工艺的主要设备。激光直写光刻机主要用于激光直写光刻，可直接对衬底上的光刻胶进行直写，对光敏材料进行图案化加工，从而实现有机半导体的图案，可以制作掩膜版，具有三维灰阶光刻功能；可应用于光学器件 DOE、微光学图形、柔性电子、掩膜版、光学图像、MEMS 等图形化微纳加工。 | 20 | 2022-12 | 无 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
(略)
发布时间：2022-11-15
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