A*光学式分析仪器

采购的光谱分析椭偏仪主要用来测量合成材料的膜厚信息，测量其低达十分之一纳米的膜厚变化，通过其变化，探测材料的不同组分、掺杂、工艺不稳定导致的孔洞、各向异性倾向、折射率梯度分布等信息。通过基于模型的分析，这些材料特性的细微变化及微结构信息将被萃取出来，从而使课题组能更深入了解研究的材料，制定更合理的工艺、方案等，提高研究的水平及质量。设备的光谱范围需不低370-1000nm的波长范围，光谱波长间隔可小至1.6nm。普通光斑直径≥3mm，微光斑≤300微米。可旋转补偿。设备可通过计算机控制45°到90°连续自动可变调整入射角。计算机控制Z轴（样品台高度）自动调节，最大行程18mm。配置可俯仰调节样品台，可通过内置四象限探测器，十字叉辅助精确对准；样品台须可以与石英微晶天平(QCM)联用并匹配。设备最快≤0.05秒完成测量。直射测量正确度：Ψ：45o±0.075o；Δ：0o±0.05o；（测试空光束，测量时间为10秒，所有测量波长点的95%满足）；膜厚测量的测量重复性优于0.003nm（30次SiO2厚度测量的标准偏差，样品为带有自然氧化层的硅片）。需配置石英晶体微天平联用样品池，提供至少金芯片和钛过渡层二氧化硅芯片两种芯片，样品池容积可达100 μL；对流动或者静止溶液均可完成测试；样品池与溶液接触材料采用耐腐蚀材料，所有可拆卸部分均可清洗；配置至少三个通道的蠕动泵；样品台入射角≥65°。基座可自动调节入射角（45°~90°，水平样品台）；可实现3轴样品对准，X和Y轴倾角分辨率: 0.001°，可自动Z轴高度调节，Z轴分辨率: 5 μm。至少5个软件许可，基于Windows系统，自带材料库、色散模型库；材料色散公式至少包括Cauchy、B-Spline、Lorentz、Gaussian、Drude、Tauc-Lorentz、Cody-Lorentz以及EMA；光学模型至少包含单层、多层、超晶格、各向异性、张量、折射率梯度、多数据拟合、材料层耦合、参数耦合、背反射修正。

A*光学式分析仪器

采购的光谱分析椭偏仪主要用来测量合成材料的膜厚信息，测量其低达十分之一纳米的膜厚变化，通过其变化，探测材料的不同组分、掺杂、工艺不稳定导致的孔洞、各向异性倾向、折射率梯度分布等信息。通过基于模型的分析，这些材料特性的细微变化及微结构信息将被萃取出来，从而使课题组能更深入了解研究的材料，制定更合理的工艺、方案等，提高研究的水平及质量。设备的光谱范围需不低370-1000nm的波长范围，光谱波长间隔可小至1.6nm。普通光斑直径≥3mm，微光斑≤300微米。可旋转补偿。设备可通过计算机控制45°到90°连续自动可变调整入射角。计算机控制Z轴（样品台高度）自动调节，最大行程18mm。配置可俯仰调节样品台，可通过内置四象限探测器，十字叉辅助精确对准；样品台须可以与石英微晶天平(QCM)联用并匹配。设备最快≤0.05秒完成测量。直射测量正确度：Ψ：45o±0.075o；Δ：0o±0.05o；（测试空光束，测量时间为10秒，所有测量波长点的95%满足）；膜厚测量的测量重复性优于0.003nm（30次SiO2厚度测量的标准偏差，样品为带有自然氧化层的硅片）。需配置石英晶体微天平联用样品池，提供至少金芯片和钛过渡层二氧化硅芯片两种芯片，样品池容积可达100 μL；对流动或者静止溶液均可完成测试；样品池与溶液接触材料采用耐腐蚀材料，所有可拆卸部分均可清洗；配置至少三个通道的蠕动泵；样品台入射角≥65°。基座可自动调节入射角（45°~90°，水平样品台）；可实现3轴样品对准，X和Y轴倾角分辨率: 0.001°，可自动Z轴高度调节，Z轴分辨率: 5 μm。至少5个软件许可，基于Windows系统，自带材料库、色散模型库；材料色散公式至少包括Cauchy、B-Spline、Lorentz、Gaussian、Drude、Tauc-Lorentz、Cody-Lorentz以及EMA；光学模型至少包含单层、多层、超晶格、各向异性、张量、折射率梯度、多数据拟合、材料层耦合、参数耦合、背反射修正。