A* - 电气物理设备

采购数量：1台1) 闭循环低温冷台；2) 大空间光学测量样品腔；3) 内外连接电学接口；4) 顶部低工作距离组件；5) 室温显微物镜组件；6) 低温闭环电动三维低温位移台；具体的主要技术指标包括：1) 闭循环低温冷台基系统1台，用于半导体样品的低温冷却。无负载情况下低于3.6K，增加内置显微物镜组件条件下≤4.2K。2) 制冷时间，无负载情况下，从300K降温至4K所用时间≤12小时。3) 冷台基台振动稳定性，无负载情况下，峰值振动≤15nm。4) 真空系统，低温工作下真空度≤0.1mTorr。5) 光学测量样品腔1台，用于样品在低温下的光学激发和荧光收集。光学窗口数量大于等于8个，顶部1个，侧向7个。6) 样品腔室操作自由空间，直径≥190mm，高度≥70mm。7) 自定义的腔内外连接电学接口，用于样品的电学测试和加载微波信号。电学接口数量≥24个。8) 顶部低工作距离组件1个，用于搭建共聚焦激光扫描显微系统。物镜工作距离≤4mm。9) 内置室温显微物镜组件1套，用于样品荧光信号的高效率收集。物镜数值孔径0.9NA。10) 闭环电动三维低温位移台，用于控制样品在低温下的位置和荧光成像扫描。位移范围≥5mm。主要功能：低温恒温器为半导体样品提供稳定的低温恒温环境，并结合减振系统降低样品振动幅度，广泛应用于先进材料低温物性研究、半导体量子信息处理、碳化硅或金刚石色等方面的研究。

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采购数量：1台1) 闭循环低温冷台；2) 大空间光学测量样品腔；3) 内外连接电学接口；4) 顶部低工作距离组件；5) 室温显微物镜组件；6) 低温闭环电动三维低温位移台；具体的主要技术指标包括：1) 闭循环低温冷台基系统1台，用于半导体样品的低温冷却。无负载情况下低于3.6K，增加内置显微物镜组件条件下≤4.2K。2) 制冷时间，无负载情况下，从300K降温至4K所用时间≤12小时。3) 冷台基台振动稳定性，无负载情况下，峰值振动≤15nm。4) 真空系统，低温工作下真空度≤0.1mTorr。5) 光学测量样品腔1台，用于样品在低温下的光学激发和荧光收集。光学窗口数量大于等于8个，顶部1个，侧向7个。6) 样品腔室操作自由空间，直径≥190mm，高度≥70mm。7) 自定义的腔内外连接电学接口，用于样品的电学测试和加载微波信号。电学接口数量≥24个。8) 顶部低工作距离组件1个，用于搭建共聚焦激光扫描显微系统。物镜工作距离≤4mm。9) 内置室温显微物镜组件1套，用于样品荧光信号的高效率收集。物镜数值孔径0.9NA。10) 闭环电动三维低温位移台，用于控制样品在低温下的位置和荧光成像扫描。位移范围≥5mm。主要功能：低温恒温器为半导体样品提供稳定的低温恒温环境，并结合减振系统降低样品振动幅度，广泛应用于先进材料低温物性研究、半导体量子信息处理、碳化硅或金刚石色等方面的研究。