重庆大学2023年1月政府采购意向-物理气相沉积系统（PVD）-A032103电子工业专用生产设备-预算金额1800.000000万元(人民币)
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重庆大学2023年1月政府采购意向-物理气相沉积系统（PVD）-A032103电子工业专用生产设备-预算金额1800.000000万元(人民币)
| 物理气相沉积系统（PVD） | |
| 项目所在采购意向： | 重庆大学2023年1月政府采购意向 |
| 采购单位： | 重庆大学 |
| 采购项目名称： | 物理气相沉积系统（PVD） |
| 预算金额： | 1800.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*电子工业专用生产设备 |
| 采购需求概况： | 未来芯片研究与试验测试平台采购物理气相沉积系统（PVD）1套。本设备用于沉积氮化铝、氮化铝钪、钼等化合物薄膜和金属薄膜，薄膜沉积腔体内采用内靶和外靶的双靶材的结构设计，给内外靶材通交流电，激发靶材，产生的离子浆在强磁场的作用下，被沉积到晶圆片上后形成膜厚均匀性非常高的薄膜。 |
| 预计采购时间： | 2023-01 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 物理气相沉积系统（PVD） | |
| 项目所在采购意向： | 重庆大学2023年1月政府采购意向 |
| 采购单位： | 重庆大学 |
| 采购项目名称： | 物理气相沉积系统（PVD） |
| 预算金额： | 1800.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*电子工业专用生产设备 |
| 采购需求概况： | 未来芯片研究与试验测试平台采购物理气相沉积系统（PVD）1套。本设备用于沉积氮化铝、氮化铝钪、钼等化合物薄膜和金属薄膜，薄膜沉积腔体内采用内靶和外靶的双靶材的结构设计，给内外靶材通交流电，激发靶材，产生的离子浆在强磁场的作用下，被沉积到晶圆片上后形成膜厚均匀性非常高的薄膜。 |
| 预计采购时间： | 2023-01 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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