深圳技术大学政府投资项目-化学机械抛光机及化学机械抛光后清洗机系统意向公开
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深圳技术大学政府投资项目-化学机械抛光机及化学机械抛光后清洗机系统意向公开
| 采购单位: | 深圳技术大学 |
| 项目名称: | 政府投资项目-化学机械抛光机及化学机械抛光后清洗机系统 |
| 预算金额（元）: | 2,400,000.000 |
| 采购品目: | 其他专用仪器仪表 |
| 采购需求概况: | 次拟计划采购的化学机械抛光机及化学机械抛光后清洗机是集成电路芯片、微纳传感芯片、超滑结构制造工艺中必不可少的设备，主要用于金属和非金属薄膜的抛光和减薄，可抛光Cu、W、SiO、Si，AlO、SiN、Ti、Ru、Ba、 Co、Ta、TaN、TiN等材料，抛光后表面粗糙度Rq可小于0.5nm，最小抛光去除量可达50nm。可抛光样品4英寸和6英寸的整片，以及部分规则小片（配合夹具）。 |
| 联系人: | 田金鹏 |
| 联系电话: | 0755-* |
| 预计采购时间: | 2022-05 |
| 备注: | 无 |
| 采购单位: | 深圳技术大学 |
| 项目名称: | 政府投资项目-化学机械抛光机及化学机械抛光后清洗机系统 |
| 预算金额（元）: | 2,400,000.000 |
| 采购品目: | 其他专用仪器仪表 |
| 采购需求概况: | 次拟计划采购的化学机械抛光机及化学机械抛光后清洗机是集成电路芯片、微纳传感芯片、超滑结构制造工艺中必不可少的设备，主要用于金属和非金属薄膜的抛光和减薄，可抛光Cu、W、SiO、Si，AlO、SiN、Ti、Ru、Ba、 Co、Ta、TaN、TiN等材料，抛光后表面粗糙度Rq可小于0.5nm，最小抛光去除量可达50nm。可抛光样品4英寸和6英寸的整片，以及部分规则小片（配合夹具）。 |
| 联系人: | 田金鹏 |
| 联系电话: | 0755-* |
| 预计采购时间: | 2022-05 |
| 备注: | 无 |
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