深圳技术大学政府投资项目-PECVD和磁控溅射系统意向公开
深圳技术大学政府投资项目-PECVD和磁控溅射系统意向公开
采购单位: | 深圳技术大学 |
项目名称: | 政府投资项目-PECVD和磁控溅射系统 |
预算金额(元): | 3,946,000.000 |
采购品目: | 其他专用仪器仪表 |
采购需求概况: | 1. 采购PECVD系统一套,主要参数如下: 1.1. 衬底尺寸:≥182mm*182mm,≥1片; 1.2. 极限真空度:≤1.0E-4Pa; 1.3. 长期使用温度范围:150-250℃;温度均匀性:≤±5℃; 1.4. 气体种类至少包含:硅烷、氢气、硼烷、磷烷、氩气、氮气; 2. 采购磁控溅射系统一套,主要参数如下: 2.1 衬底尺寸:≥182mm*182mm,≥1片; 2.2 溅射靶:≥2套; 2.3 工艺腔极限真空:≤1.0E-4Pa; 2.4 电源: 电源个数≥2个,电源功率≥1kW; 2.5 靶基距可调; 2.6 工艺气体供气至少包含:Ar、O2 |
联系人: | 项老师 |
联系电话: | 0755-* |
预计采购时间: | 2022-02 |
备注: | 无 |
采购单位: | 深圳技术大学 |
项目名称: | 政府投资项目-PECVD和磁控溅射系统 |
预算金额(元): | 3,946,000.000 |
采购品目: | 其他专用仪器仪表 |
采购需求概况: | 1. 采购PECVD系统一套,主要参数如下: 1.1. 衬底尺寸:≥182mm*182mm,≥1片; 1.2. 极限真空度:≤1.0E-4Pa; 1.3. 长期使用温度范围:150-250℃;温度均匀性:≤±5℃; 1.4. 气体种类至少包含:硅烷、氢气、硼烷、磷烷、氩气、氮气; 2. 采购磁控溅射系统一套,主要参数如下: 2.1 衬底尺寸:≥182mm*182mm,≥1片; 2.2 溅射靶:≥2套; 2.3 工艺腔极限真空:≤1.0E-4Pa; 2.4 电源: 电源个数≥2个,电源功率≥1kW; 2.5 靶基距可调; 2.6 工艺气体供气至少包含:Ar、O2 |
联系人: | 项老师 |
联系电话: | 0755-* |
预计采购时间: | 2022-02 |
备注: | 无 |
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