深圳技术大学政府投资项目-PECVD和磁控溅射系统意向公开

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深圳技术大学政府投资项目-PECVD和磁控溅射系统意向公开

深圳技术大学政府投资项目-PECVD和磁控溅射系统意向公开
采购单位:深圳技术大学
项目名称:政府投资项目-PECVD和磁控溅射系统
预算金额(元):3,946,000.000
采购品目:其他专用仪器仪表
采购需求概况:1. 采购PECVD系统一套,主要参数如下:
1.1. 衬底尺寸:≥182mm*182mm,≥1片;
1.2. 极限真空度:≤1.0E-4Pa;
1.3. 长期使用温度范围:150-250℃;温度均匀性:≤±5℃;
1.4. 气体种类至少包含:硅烷、氢气、硼烷、磷烷、氩气、氮气;
2. 采购磁控溅射系统一套,主要参数如下:
2.1 衬底尺寸:≥182mm*182mm,≥1片;
2.2 溅射靶:≥2套;
2.3 工艺腔极限真空:≤1.0E-4Pa;
2.4 电源: 电源个数≥2个,电源功率≥1kW;
2.5 靶基距可调;
2.6 工艺气体供气至少包含:Ar、O2
联系人:项老师
联系电话:0755-*
预计采购时间:2022-02
备注:
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准
深圳技术大学政府投资项目-PECVD和磁控溅射系统意向公开
采购单位:深圳技术大学
项目名称:政府投资项目-PECVD和磁控溅射系统
预算金额(元):3,946,000.000
采购品目:其他专用仪器仪表
采购需求概况:1. 采购PECVD系统一套,主要参数如下:
1.1. 衬底尺寸:≥182mm*182mm,≥1片;
1.2. 极限真空度:≤1.0E-4Pa;
1.3. 长期使用温度范围:150-250℃;温度均匀性:≤±5℃;
1.4. 气体种类至少包含:硅烷、氢气、硼烷、磷烷、氩气、氮气;
2. 采购磁控溅射系统一套,主要参数如下:
2.1 衬底尺寸:≥182mm*182mm,≥1片;
2.2 溅射靶:≥2套;
2.3 工艺腔极限真空:≤1.0E-4Pa;
2.4 电源: 电源个数≥2个,电源功率≥1kW;
2.5 靶基距可调;
2.6 工艺气体供气至少包含:Ar、O2
联系人:项老师
联系电话:0755-*
预计采购时间:2022-02
备注:
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准
    
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