电子束曝光系统项目所在采购意向：华南理工大学2023年2月政府采购意向采购单位：华南理工大学采购项目名称：电子束曝光系统预算金额：110.*万元(人民币)采购品目：
A*其他试验仪器及装置采购需求概况 ：
电子束曝光是利用电子束在光刻胶上扫描直接产生图形，具有可直接刻画亚微米级别的精细图案、高分辨率等优点，是实验室制作微小纳米电子元件的常用手段。在既有的扫描电子显微镜上安装图形发生器和电子束闸，就可以使得扫描电子显微镜具备控制电子束描绘图形的功能。 1. 硬件指标： 1.1. ▲基于PCI技术的图形发生器硬件，扫描频率为6 MHz, 且6MHz都可用于像素的自由选址。 1.2. 含有主动抗尖峰脉冲电路，对应温度微小漂移 1.3 ▲ 需配备6个 16位高速数据收集和控制系统，通过硬件精确修正写场的平移、倾斜、旋转等畸变，可以控制步长低于纳米量级，最小步距增量不大于0.1nm。 1.4. ▲可设定写场范围不小于0.5um x 0.5um ~ 2mm x 2mm 1.5. 提供配有法拉第杯的通用样品台， 采用卡钳的方式固定小样片，样品尺寸最大为20 x 20 mm。 1.6. 提供用于写场精细校准的CHESSY。 1.7. 提供电子束曝光工具箱，需配备常用工具、测试样品（涂有PMMA光刻胶的测试样品，显影液、定影液等）等。 1.8. 提供专业工作站一套，22寸平板显示器，已预装好Windows系统和专业的电子束曝光软件。 1.9 *需配置现有扫描电子显微镜GeminiSEM 500的配套电子束闸。 2. 软件指标 2.1. 多用户环境，每个用户可以使用独立的文件和参数。 2.2. ▲无缝集成GDSII编辑器，可对曝光图形进行分层设计（不低于64层），具有处理复杂图形的能力。 2.3. 数据输入格式可以为DXF, ASCII, CIF, etc 2.4. ▲提供多种扫描方式可供选择。提供圆形扫描模式，用于圆形或环形结构的扫描填充，保证图形边缘的光滑，以及低数据量的快速处理。 2.5. ▲可手动或自动方式完成套刻工艺。 2.6. ▲提供表面编辑模块，可直接在SEM图像上编辑图形，进行精确套刻功能。预计采购时间：2023-02备注：

电子束曝光系统项目所在采购意向：华南理工大学2023年2月政府采购意向采购单位：华南理工大学采购项目名称：电子束曝光系统预算金额：110.*万元(人民币)采购品目：
A*其他试验仪器及装置采购需求概况 ：
电子束曝光是利用电子束在光刻胶上扫描直接产生图形，具有可直接刻画亚微米级别的精细图案、高分辨率等优点，是实验室制作微小纳米电子元件的常用手段。在既有的扫描电子显微镜上安装图形发生器和电子束闸，就可以使得扫描电子显微镜具备控制电子束描绘图形的功能。 1. 硬件指标： 1.1. ▲基于PCI技术的图形发生器硬件，扫描频率为6 MHz, 且6MHz都可用于像素的自由选址。 1.2. 含有主动抗尖峰脉冲电路，对应温度微小漂移 1.3 ▲ 需配备6个 16位高速数据收集和控制系统，通过硬件精确修正写场的平移、倾斜、旋转等畸变，可以控制步长低于纳米量级，最小步距增量不大于0.1nm。 1.4. ▲可设定写场范围不小于0.5um x 0.5um ~ 2mm x 2mm 1.5. 提供配有法拉第杯的通用样品台， 采用卡钳的方式固定小样片，样品尺寸最大为20 x 20 mm。 1.6. 提供用于写场精细校准的CHESSY。 1.7. 提供电子束曝光工具箱，需配备常用工具、测试样品（涂有PMMA光刻胶的测试样品，显影液、定影液等）等。 1.8. 提供专业工作站一套，22寸平板显示器，已预装好Windows系统和专业的电子束曝光软件。 1.9 *需配置现有扫描电子显微镜GeminiSEM 500的配套电子束闸。 2. 软件指标 2.1. 多用户环境，每个用户可以使用独立的文件和参数。 2.2. ▲无缝集成GDSII编辑器，可对曝光图形进行分层设计（不低于64层），具有处理复杂图形的能力。 2.3. 数据输入格式可以为DXF, ASCII, CIF, etc 2.4. ▲提供多种扫描方式可供选择。提供圆形扫描模式，用于圆形或环形结构的扫描填充，保证图形边缘的光滑，以及低数据量的快速处理。 2.5. ▲可手动或自动方式完成套刻工艺。 2.6. ▲提供表面编辑模块，可直接在SEM图像上编辑图形，进行精确套刻功能。预计采购时间：2023-02备注：