中国科学院光电技术研究所2023年3至4月政府采购意向-ICP刻蚀设备-A02100699-其他试验仪器及装置-预算金额2550.000000万元(人民币)
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中国科学院光电技术研究所2023年3至4月政府采购意向-ICP刻蚀设备-A02100699-其他试验仪器及装置-预算金额2550.000000万元(人民币)
| ICP刻蚀设备 | |
| 项目所在采购意向： | (略) 光电技术研究所2023年3至4月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 光电技术研究所 |
| 采购项目名称： | ICP刻蚀设备 |
| 预算金额： | 2550.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*-其他试验仪器及装置 |
| 采购需求概况： | ICP刻蚀设备可对介质、金属材料进行高选择比、高精确地刻蚀，用于12英寸基片表面各种图形的刻蚀传递，以及多层套刻结构的刻蚀和深孔、连通孔的刻蚀制备。本单位尚未配备满足以上需求的同类设备，亟需购买该设备来进行12英寸晶圆28nm及以上制程的介质、金属结构刻蚀。 |
| 预计采购时间： | 2023-03 |
| 备注： | 无 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| ICP刻蚀设备 | |
| 项目所在采购意向： | (略) 光电技术研究所2023年3至4月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 光电技术研究所 |
| 采购项目名称： | ICP刻蚀设备 |
| 预算金额： | 2550.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*-其他试验仪器及装置 |
| 采购需求概况： | ICP刻蚀设备可对介质、金属材料进行高选择比、高精确地刻蚀，用于12英寸基片表面各种图形的刻蚀传递，以及多层套刻结构的刻蚀和深孔、连通孔的刻蚀制备。本单位尚未配备满足以上需求的同类设备，亟需购买该设备来进行12英寸晶圆28nm及以上制程的介质、金属结构刻蚀。 |
| 预计采购时间： | 2023-03 |
| 备注： | 无 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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