中国科学院微电子研究所2023年4至12月政府采购意向-无掩模光刻系统-A02330300-电子工业生产设备-预算金额420.000000万元(人民币)
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中国科学院微电子研究所2023年4至12月政府采购意向-无掩模光刻系统-A02330300-电子工业生产设备-预算金额420.000000万元(人民币)
| 无掩模光刻系统 | |
| 项目所在采购意向： | (略) 微电子研究所2023年4至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 微电子研究所 |
| 采购项目名称： | 无掩模光刻系统 |
| 预算金额： | 420.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*-电子工业生产设备 |
| 采购需求概况： | 采购标的名称：无掩模光刻系统主要功能：用于激光直写式的无掩模光刻工艺。适用于快速曝光、复杂图形曝光、连续曝光、曲线曝光，实现轮廓平滑的高分辨率曝光。采购标的数量：1台质量要求：1、最小分辨率达到0.6微米；2、设备软件具有虚拟掩模、热漂移校正模块和曝光平滑算法；3、软件校正曝光图形，可实现快速曝光、复杂图形曝光、连续曝光、曲线曝光；4、适用于轮廓平滑的高分辨率曝光、亚微米级平面图形化；5、配置激光聚焦功能，满足小样品曝光需求、多层套刻需求。服务、安全、时限等要求：提供设备验收合格后1年质保。提供符合现场实际情况的设备安装方案。设备订单生成后1年内交货安装完成。 |
| 预计采购时间： | 2023-05 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 无掩模光刻系统 | |
| 项目所在采购意向： | (略) 微电子研究所2023年4至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 微电子研究所 |
| 采购项目名称： | 无掩模光刻系统 |
| 预算金额： | 420.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*-电子工业生产设备 |
| 采购需求概况： | 采购标的名称：无掩模光刻系统主要功能：用于激光直写式的无掩模光刻工艺。适用于快速曝光、复杂图形曝光、连续曝光、曲线曝光，实现轮廓平滑的高分辨率曝光。采购标的数量：1台质量要求：1、最小分辨率达到0.6微米；2、设备软件具有虚拟掩模、热漂移校正模块和曝光平滑算法；3、软件校正曝光图形，可实现快速曝光、复杂图形曝光、连续曝光、曲线曝光；4、适用于轮廓平滑的高分辨率曝光、亚微米级平面图形化；5、配置激光聚焦功能，满足小样品曝光需求、多层套刻需求。服务、安全、时限等要求：提供设备验收合格后1年质保。提供符合现场实际情况的设备安装方案。设备订单生成后1年内交货安装完成。 |
| 预计采购时间： | 2023-05 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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