中国科学院微电子研究所2023年4至12月政府采购意向-原子层沉积设备-A02330300-电子工业生产设备-预算金额150.000000万元(人民币)
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中国科学院微电子研究所2023年4至12月政府采购意向-原子层沉积设备-A02330300-电子工业生产设备-预算金额150.000000万元(人民币)
| 原子层沉积设备 | |
| 项目所在采购意向： | (略) 微电子研究所2023年4至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 微电子研究所 |
| 采购项目名称： | 原子层沉积设备 |
| 预算金额： | 150.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*-电子工业生产设备 |
| 采购需求概况： | 在3D IC工艺开发过程中，需要在三维集成工艺中引入碳基等薄膜半导体材料用于制备薄膜晶体管以实现片上异质器件三维集成，为实现低温制备原子级厚度均匀和组分可控的碳基等异质薄膜材料需要采用原子层沉积技术。为了提升片上异质材料生长特性和避免交叉污染，保障项目正常运行和弯沉给，需要购置一台专用的碳基等片上异质材料的原子层沉积设备。 |
| 预计采购时间： | 2023-05 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 原子层沉积设备 | |
| 项目所在采购意向： | (略) 微电子研究所2023年4至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 微电子研究所 |
| 采购项目名称： | 原子层沉积设备 |
| 预算金额： | 150.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*-电子工业生产设备 |
| 采购需求概况： | 在3D IC工艺开发过程中，需要在三维集成工艺中引入碳基等薄膜半导体材料用于制备薄膜晶体管以实现片上异质器件三维集成，为实现低温制备原子级厚度均匀和组分可控的碳基等异质薄膜材料需要采用原子层沉积技术。为了提升片上异质材料生长特性和避免交叉污染，保障项目正常运行和弯沉给，需要购置一台专用的碳基等片上异质材料的原子层沉积设备。 |
| 预计采购时间： | 2023-05 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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