深圳国际量子研究院超高真空电子束蒸发镀膜仪采购项目意向公开
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深圳国际量子研究院超高真空电子束蒸发镀膜仪采购项目意向公开
| 采购单位: | 深圳国 (略) |
| 项目名称: | 超高真空电子束蒸发镀膜仪采购项目 |
| 预算金额（元）: | 5,300,000.000 |
| 采购品目: | 其他机械设备 |
| 采购需求概况: | 本次拟采购的Explorer-22超高真空电子束蒸发镀膜仪是 (略) 研发的先进薄膜沉积设备，专用于制备金属、非金属薄膜材料，尤其是具有特殊功能的材料。该型号设备适用于生长8英寸衬底上的薄膜，45英寸加高腔体对于高熔点贵金属Au、Pt、Pd等实现小线宽、大面积的剥离非常有利。 设备采用 (略) 的6个25CC坩埚源进行填料蒸镀，蒸镀最大功率为10 KW，采用双晶振控制膜厚，可实现不同材料的电子束蒸镀，同时双晶振保证了长时间高质量的薄膜生长。该设备配备的EDWARDS的CT-10冷泵与全铜密封保证了机器可以达到1e-9 Torr的极限真空，使得薄膜材料可以更高质量更高平整度的生长。高质量的薄膜生长情况，对于量子芯片的工艺是不可或缺的。另外，该设备作为薄膜沉积类设备同样也可以满足其他微纳加工工艺开发的需要，尤其对Au、Pt、Pd、Ti、Al等重要的高熔点材料Lift-off的大面积制备具有良好的普遍适用性。 |
| 预计采购时间: | 2023-3 |
| 联系人: | 谢老师 |
| 联系电话: | 0755-* |
| 备注: | 无 |
| 采购单位: | 深圳国 (略) |
| 项目名称: | 超高真空电子束蒸发镀膜仪采购项目 |
| 预算金额（元）: | 5,300,000.000 |
| 采购品目: | 其他机械设备 |
| 采购需求概况: | 本次拟采购的Explorer-22超高真空电子束蒸发镀膜仪是 (略) 研发的先进薄膜沉积设备，专用于制备金属、非金属薄膜材料，尤其是具有特殊功能的材料。该型号设备适用于生长8英寸衬底上的薄膜，45英寸加高腔体对于高熔点贵金属Au、Pt、Pd等实现小线宽、大面积的剥离非常有利。 设备采用 (略) 的6个25CC坩埚源进行填料蒸镀，蒸镀最大功率为10 KW，采用双晶振控制膜厚，可实现不同材料的电子束蒸镀，同时双晶振保证了长时间高质量的薄膜生长。该设备配备的EDWARDS的CT-10冷泵与全铜密封保证了机器可以达到1e-9 Torr的极限真空，使得薄膜材料可以更高质量更高平整度的生长。高质量的薄膜生长情况，对于量子芯片的工艺是不可或缺的。另外，该设备作为薄膜沉积类设备同样也可以满足其他微纳加工工艺开发的需要，尤其对Au、Pt、Pd、Ti、Al等重要的高熔点材料Lift-off的大面积制备具有良好的普遍适用性。 |
| 预计采购时间: | 2023-3 |
| 联系人: | 谢老师 |
| 联系电话: | 0755-* |
| 备注: | 无 |
| 采购单位: | 深圳国 (略) |
| 项目名称: | 超高真空电子束蒸发镀膜仪采购项目 |
| 预算金额（元）: | 5,300,000.000 |
| 采购品目: | 其他机械设备 |
| 采购需求概况: | 本次拟采购的Explorer-22超高真空电子束蒸发镀膜仪是 (略) 研发的先进薄膜沉积设备，专用于制备金属、非金属薄膜材料，尤其是具有特殊功能的材料。该型号设备适用于生长8英寸衬底上的薄膜，45英寸加高腔体对于高熔点贵金属Au、Pt、Pd等实现小线宽、大面积的剥离非常有利。 设备采用 (略) 的6个25CC坩埚源进行填料蒸镀，蒸镀最大功率为10 KW，采用双晶振控制膜厚，可实现不同材料的电子束蒸镀，同时双晶振保证了长时间高质量的薄膜生长。该设备配备的EDWARDS的CT-10冷泵与全铜密封保证了机器可以达到1e-9 Torr的极限真空，使得薄膜材料可以更高质量更高平整度的生长。高质量的薄膜生长情况，对于量子芯片的工艺是不可或缺的。另外，该设备作为薄膜沉积类设备同样也可以满足其他微纳加工工艺开发的需要，尤其对Au、Pt、Pd、Ti、Al等重要的高熔点材料Lift-off的大面积制备具有良好的普遍适用性。 |
| 预计采购时间: | 2023-3 |
| 联系人: | 谢老师 |
| 联系电话: | 0755-* |
| 备注: | 无 |
| 采购单位: | 深圳国 (略) |
| 项目名称: | 超高真空电子束蒸发镀膜仪采购项目 |
| 预算金额（元）: | 5,300,000.000 |
| 采购品目: | 其他机械设备 |
| 采购需求概况: | 本次拟采购的Explorer-22超高真空电子束蒸发镀膜仪是 (略) 研发的先进薄膜沉积设备，专用于制备金属、非金属薄膜材料，尤其是具有特殊功能的材料。该型号设备适用于生长8英寸衬底上的薄膜，45英寸加高腔体对于高熔点贵金属Au、Pt、Pd等实现小线宽、大面积的剥离非常有利。 设备采用 (略) 的6个25CC坩埚源进行填料蒸镀，蒸镀最大功率为10 KW，采用双晶振控制膜厚，可实现不同材料的电子束蒸镀，同时双晶振保证了长时间高质量的薄膜生长。该设备配备的EDWARDS的CT-10冷泵与全铜密封保证了机器可以达到1e-9 Torr的极限真空，使得薄膜材料可以更高质量更高平整度的生长。高质量的薄膜生长情况，对于量子芯片的工艺是不可或缺的。另外，该设备作为薄膜沉积类设备同样也可以满足其他微纳加工工艺开发的需要，尤其对Au、Pt、Pd、Ti、Al等重要的高熔点材料Lift-off的大面积制备具有良好的普遍适用性。 |
| 预计采购时间: | 2023-3 |
| 联系人: | 谢老师 |
| 联系电话: | 0755-* |
| 备注: | 无 |
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