中国科学技术大学2023年4至6月政府意向-磁控溅射系统-A02109900其他仪器仪表-招标预告
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中国科学技术大学2023年4至6月政府意向-磁控溅射系统-A02109900其他仪器仪表-招标预告
| 磁控溅射系统 | |
| 项目所在采购意向： | 中国科学技术大学2023年4至6月政府采购意向 |
| 采购单位： | 中国科学技术大学 |
| 采购项目名称： | 磁控溅射系统 |
| 预算金额： | 750.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*其他仪器仪表 |
| 采购需求概况 ： | "设备可以在4英寸（100mm）晶圆上实现高精度金属薄膜及氧化物介质薄膜的制备，设备保证满足7?24h 的长时间的运行稳定性与可靠性，片内200mm 晶 圆沉积均匀性优于?5%，批次间误差小于?2%。可用于制备磁性多层膜及隧道结。" |
| 预计采购时间： | 2023-06 |
| 磁控溅射系统 | |
| 项目所在采购意向： | 中国科学技术大学2023年4至6月政府采购意向 |
| 采购单位： | 中国科学技术大学 |
| 采购项目名称： | 磁控溅射系统 |
| 预算金额： | 750.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*其他仪器仪表 |
| 采购需求概况 ： | "设备可以在4英寸（100mm）晶圆上实现高精度金属薄膜及氧化物介质薄膜的制备，设备保证满足7?24h 的长时间的运行稳定性与可靠性，片内200mm 晶 圆沉积均匀性优于?5%，批次间误差小于?2%。可用于制备磁性多层膜及隧道结。" |
| 预计采购时间： | 2023-06 |
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