磁控溅射系统-A02109900其他仪器仪表招标预告
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磁控溅射系统-A02109900其他仪器仪表招标预告
| 磁控溅射系统 | |
| 项目所在采购意向： | 中国科学技术大学2023年3月政府采购意向 |
| 采购单位： | 中国科学技术大学 |
| 采购项目名称： | 磁控溅射系统 |
| 预算金额： | 500.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*其他仪器仪表 |
| 采购需求概况 ： | 该设备主要用于制备高性能超导薄膜，需要达到以下条件： 1.真空度优于5e-7Pa 2.支持全自动镀膜 3.支持离子束刻蚀 4.支持4个以上靶材 5.支持至少3路气体，并能进行精准的流量控制 6.支持多个共溅射 7.支持样品控温 |
| 预计采购时间： | 2023-03 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 磁控溅射系统 | |
| 项目所在采购意向： | 中国科学技术大学2023年3月政府采购意向 |
| 采购单位： | 中国科学技术大学 |
| 采购项目名称： | 磁控溅射系统 |
| 预算金额： | 500.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*其他仪器仪表 |
| 采购需求概况 ： | 该设备主要用于制备高性能超导薄膜，需要达到以下条件： 1.真空度优于5e-7Pa 2.支持全自动镀膜 3.支持离子束刻蚀 4.支持4个以上靶材 5.支持至少3路气体，并能进行精准的流量控制 6.支持多个共溅射 7.支持样品控温 |
| 预计采购时间： | 2023-03 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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