电子束曝光机招标预告
电子束曝光机招标预告
电子束曝光机 | |
项目所在采购意向: | zycgr*年4至12月政府采购意向 |
采购单位: | zycgr* |
采购项目名称: | 电子束曝光机 |
预算金额: | 740.*万元(人民币) |
采购品目: | A*电子光学及离子光学仪器 |
采购需求概况 : | 拟购置1台电子束曝光机,通过控制聚焦电子束在衬底表面的光刻胶层上扫描,对光刻胶进行曝光,刻写精细结构图形。这种工艺技术是当前制备微纳尺度的器件必不可少的。同时设备具有成像功能,可以像高分辨扫描电镜一样观察度量样品。主要技术指标包括电子的加速电压20-30kV,样品台能够在至少10cm×10cm范围精确移动,带激光干涉定位,XY移动定位精度1nm,写场可调且可到2mm,电子束最小束斑小于5nm。本课题要制备的器件主要包括在三维拓扑绝缘体薄膜和纳米带上制备超导结构、正常金属结构和绝缘层结构,器件设计需要多层结构,且需要高精度的套刻。该电子束曝光机是需要大量使用的设备,且满足实验需求。 |
预计采购时间: | 2023-06 |
备注: |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
电子束曝光机 | |
项目所在采购意向: | zycgr*年4至12月政府采购意向 |
采购单位: | zycgr* |
采购项目名称: | 电子束曝光机 |
预算金额: | 740.*万元(人民币) |
采购品目: | A*电子光学及离子光学仪器 |
采购需求概况 : | 拟购置1台电子束曝光机,通过控制聚焦电子束在衬底表面的光刻胶层上扫描,对光刻胶进行曝光,刻写精细结构图形。这种工艺技术是当前制备微纳尺度的器件必不可少的。同时设备具有成像功能,可以像高分辨扫描电镜一样观察度量样品。主要技术指标包括电子的加速电压20-30kV,样品台能够在至少10cm×10cm范围精确移动,带激光干涉定位,XY移动定位精度1nm,写场可调且可到2mm,电子束最小束斑小于5nm。本课题要制备的器件主要包括在三维拓扑绝缘体薄膜和纳米带上制备超导结构、正常金属结构和绝缘层结构,器件设计需要多层结构,且需要高精度的套刻。该电子束曝光机是需要大量使用的设备,且满足实验需求。 |
预计采购时间: | 2023-06 |
备注: |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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