A*其他金属加工设备

离子铣及沉积设备1套。1.5.1.不锈钢真空腔；1.5.2.配备真空分子泵和前级泵系统；★1.5.3.极限真空度：≤8.5*10-5；1.5.4.配备腔室压力测量系统；★1.5.5.样品台可装6英寸样品，自转速率10rpm，两侧扫描距离0~50mm；★1.5.6.水冷靶台1.5.6.1？装靶数：4靶（靶尺寸Ф150mm*δ3~5mm）；1.5.6.2？离子束溅射靶温：＜100℃（冷却靶水温5~25℃可调）；1.5.6.3？换靶方式：随机外部手动换靶。1.5.7.冷却水温度：5~25℃；1.5.8.配备二路工艺气路及流量控制系统；★1.5.9.聚焦束溅射离子源：Ф150mm，离子能量可调范围Ei=0~1000eV，束流可调范围Jb=0~200mA，Φ100mm范围内均匀性≤±3~5%；★1.5.10.辅助沉积离子源：Ф150mm，离子能量可调范围Ei=0~1000eV，束流可调范围Jb=0~130mA；★1.5.11.薄膜均匀性：6英寸样品±3~5%；1.5.12.配备2套恒温水循环系统，1套用于分子泵和离子源室冷却、1套用于靶台冷却，按需调节和控制水温；1.5.13.离子源采用插装式安装，无需外接水冷管道；1.5.14.采用计算机控制，具有工艺控制、故障自诊断、自动报警保护等功能，工艺控制包括用户管理、工艺编辑、气路控制、系统参数设置等模块，包含必要的安全互锁、高压保护、紧急停止系统。★1.5.15.不锈钢真空腔，刻蚀样品台安装在真空腔室门板上，可旋出腔室，离子源挡板、腔室有预留口；1.5.16配备真空分子泵和前级泵系统；★1.5.17.极限真空度：≤8.5*10-5；1.5.18.配备腔室压力测量系统；★1.5.19.钛合金材质样品台台面，直径180mm，自转速率0~20rpm；★1.5.20.样品台倾斜角度0~180度可自动调节，精确度±1度；可实现负角度刻蚀.1.5.21.冷却水温度：5~25℃；1.5.22.配备工艺气路及流量控制系统；★1.5.23.口径Φ200mm考夫曼离子源（以阳极筒内经为准），有效束径≥Φ150mm，Φ150mm范围内均匀性±3-5%；★1.5.24.离子能量可调范围；0~1000eV；★1.5.25.离子束流可调范围：0~200mA，离子能量和束流自动匹配；★1.5.26.≥6种金属材料刻蚀工艺（Au；Pt；Al；Ni；Ag；Cu等）；1.5.27.离子源采用插装式安装，无需外接水冷管道；结构紧凑、重量轻，方便拆装、清洗、更换灯丝等日常维护需要1.5.28.采用计算机控制，具有工艺控制、故障自诊断、自动报警保护等功能，工艺控制包括用户管理、工艺编辑、气路控制、系统参数设置等模块，包含必要的安全互锁、高压保护、紧急停止系统。预算145万以内

A*其他金属加工设备

离子铣及沉积设备1套。1.5.1.不锈钢真空腔；1.5.2.配备真空分子泵和前级泵系统；★1.5.3.极限真空度：≤8.5*10-5；1.5.4.配备腔室压力测量系统；★1.5.5.样品台可装6英寸样品，自转速率10rpm，两侧扫描距离0~50mm；★1.5.6.水冷靶台1.5.6.1？装靶数：4靶（靶尺寸Ф150mm*δ3~5mm）；1.5.6.2？离子束溅射靶温：＜100℃（冷却靶水温5~25℃可调）；1.5.6.3？换靶方式：随机外部手动换靶。1.5.7.冷却水温度：5~25℃；1.5.8.配备二路工艺气路及流量控制系统；★1.5.9.聚焦束溅射离子源：Ф150mm，离子能量可调范围Ei=0~1000eV，束流可调范围Jb=0~200mA，Φ100mm范围内均匀性≤±3~5%；★1.5.10.辅助沉积离子源：Ф150mm，离子能量可调范围Ei=0~1000eV，束流可调范围Jb=0~130mA；★1.5.11.薄膜均匀性：6英寸样品±3~5%；1.5.12.配备2套恒温水循环系统，1套用于分子泵和离子源室冷却、1套用于靶台冷却，按需调节和控制水温；1.5.13.离子源采用插装式安装，无需外接水冷管道；1.5.14.采用计算机控制，具有工艺控制、故障自诊断、自动报警保护等功能，工艺控制包括用户管理、工艺编辑、气路控制、系统参数设置等模块，包含必要的安全互锁、高压保护、紧急停止系统。★1.5.15.不锈钢真空腔，刻蚀样品台安装在真空腔室门板上，可旋出腔室，离子源挡板、腔室有预留口；1.5.16配备真空分子泵和前级泵系统；★1.5.17.极限真空度：≤8.5*10-5；1.5.18.配备腔室压力测量系统；★1.5.19.钛合金材质样品台台面，直径180mm，自转速率0~20rpm；★1.5.20.样品台倾斜角度0~180度可自动调节，精确度±1度；可实现负角度刻蚀.1.5.21.冷却水温度：5~25℃；1.5.22.配备工艺气路及流量控制系统；★1.5.23.口径Φ200mm考夫曼离子源（以阳极筒内经为准），有效束径≥Φ150mm，Φ150mm范围内均匀性±3-5%；★1.5.24.离子能量可调范围；0~1000eV；★1.5.25.离子束流可调范围：0~200mA，离子能量和束流自动匹配；★1.5.26.≥6种金属材料刻蚀工艺（Au；Pt；Al；Ni；Ag；Cu等）；1.5.27.离子源采用插装式安装，无需外接水冷管道；结构紧凑、重量轻，方便拆装、清洗、更换灯丝等日常维护需要1.5.28.采用计算机控制，具有工艺控制、故障自诊断、自动报警保护等功能，工艺控制包括用户管理、工艺编辑、气路控制、系统参数设置等模块，包含必要的安全互锁、高压保护、紧急停止系统。预算145万以内