南京大学2023年7至9月政府采购意向-原子层沉积ALD设备真空应用设备-预算金额万元人民币
南京大学2023年7至9月政府采购意向-原子层沉积ALD设备真空应用设备-预算金额万元人民币
原子层沉积(ALD)设备 | |
项目所在采购意向: | 南京大学2023年7至9月政府采购意向 |
采购单位: | 南京大学 |
采购项目名称: | 原子层沉积(ALD)设备 |
预算金额: | 700.*万元(人民币) |
采购品目: | A* 真空应用设备 |
采购需求概况: | 南京大学拟采购原子层沉积(ALD)设备一台, 在不经过大气环境转移的情况下,可连续实现金属和介质材料的多层结构,同时保障界面清洁无损;在集成电路的核心工艺通孔填充环节,利用该设备可实现均匀、致密的阻挡层、种子层、金属层,并避免金属扩散,提高器件可靠性。主要技术指标:1. 双腔互联结构;2. 兼容200mm及以下晶圆;3. 可选择热沉积和等离子辅助沉积两种模式;4. 工艺温度范围:30-550C;5. 至少配备5路金属前驱体源和5路工艺气路。质保期:3年。 |
预计采购时间: | 2023-09 |
备注: |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
原子层沉积(ALD)设备 | |
项目所在采购意向: | 南京大学2023年7至9月政府采购意向 |
采购单位: | 南京大学 |
采购项目名称: | 原子层沉积(ALD)设备 |
预算金额: | 700.*万元(人民币) |
采购品目: | A* 真空应用设备 |
采购需求概况: | 南京大学拟采购原子层沉积(ALD)设备一台, 在不经过大气环境转移的情况下,可连续实现金属和介质材料的多层结构,同时保障界面清洁无损;在集成电路的核心工艺通孔填充环节,利用该设备可实现均匀、致密的阻挡层、种子层、金属层,并避免金属扩散,提高器件可靠性。主要技术指标:1. 双腔互联结构;2. 兼容200mm及以下晶圆;3. 可选择热沉积和等离子辅助沉积两种模式;4. 工艺温度范围:30-550C;5. 至少配备5路金属前驱体源和5路工艺气路。质保期:3年。 |
预计采购时间: | 2023-09 |
备注: |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
最近搜索
无
热门搜索
无