A*物理光学仪器

采购项目名称为原子层沉积系统。主要功能：原子层沉积是一种将物质以单原子膜形式一层一层的镀在衬底表面的方法，具有均匀性好，厚度可控性强的特点，常用于制造各类化合物、氧化物介质层等各种薄膜，常用于集成电路阻挡层制备和半导体材料及器件结构的研究和制造，是重要的半导体工艺设备之一，原子层沉积系统的建设是工艺流程完善的必要。为进一步完善半导体器件制备工艺环节，采购原子层沉积系统，用作器件电级、欧姆接触、栅极、隔离层、钝化层的制备，是完善工艺环节，提升平台使用率与研究成果质量的关键，具有及时建设的必要性。为满足不同的使用需求，需要采购一台功能多、配置全的原子层沉积系统，不仅能够实现热法沉积，同时也能够实现等离子体工艺的沉积。适用于8英寸、6英寸、4英寸、3英寸、2英寸及破片加工。同时需配备臭氧发生器，可用于实现臭氧工艺和对衬底进行预处理。需留有手套箱接口，可以实现与手套箱进行对接。还需配备针对于蒸气压较低的前驱体源的高温模块。

A*物理光学仪器

采购项目名称为原子层沉积系统。主要功能：原子层沉积是一种将物质以单原子膜形式一层一层的镀在衬底表面的方法，具有均匀性好，厚度可控性强的特点，常用于制造各类化合物、氧化物介质层等各种薄膜，常用于集成电路阻挡层制备和半导体材料及器件结构的研究和制造，是重要的半导体工艺设备之一，原子层沉积系统的建设是工艺流程完善的必要。为进一步完善半导体器件制备工艺环节，采购原子层沉积系统，用作器件电级、欧姆接触、栅极、隔离层、钝化层的制备，是完善工艺环节，提升平台使用率与研究成果质量的关键，具有及时建设的必要性。为满足不同的使用需求，需要采购一台功能多、配置全的原子层沉积系统，不仅能够实现热法沉积，同时也能够实现等离子体工艺的沉积。适用于8英寸、6英寸、4英寸、3英寸、2英寸及破片加工。同时需配备臭氧发生器，可用于实现臭氧工艺和对衬底进行预处理。需留有手套箱接口，可以实现与手套箱进行对接。还需配备针对于蒸气压较低的前驱体源的高温模块。