上海大学2023年08月政府采购意向-高深宽比反应离子刻蚀设备
上海大学2023年08月政府采购意向-高深宽比反应离子刻蚀设备
序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 预算金额(元) | 预计采购时间(填写到月) | 备注 |
---|---|---|---|---|---|
1 | 高深宽比反应离子刻蚀设备 | 包含真空反应室、等离子体系统、气路输送系统、排气系统、温度控制系统等;最大支持8英寸晶圆,向下兼容;RF源功率不小于5 kW,匹配稳定时间小于3秒;可支持至少8路气路;配备双刻蚀模块,每个模块均配备OES终点检测装置;配备静电卡盘(ESC)和机械卡盘。反应墙壁温度可控,温度范围室温至100℃。质保期至少2年,交货期合同签订后7个月内。 | *.00 | 2023-08 |
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序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 预算金额(元) | 预计采购时间(填写到月) | 备注 |
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1 | 高深宽比反应离子刻蚀设备 | 包含真空反应室、等离子体系统、气路输送系统、排气系统、温度控制系统等;最大支持8英寸晶圆,向下兼容;RF源功率不小于5 kW,匹配稳定时间小于3秒;可支持至少8路气路;配备双刻蚀模块,每个模块均配备OES终点检测装置;配备静电卡盘(ESC)和机械卡盘。反应墙壁温度可控,温度范围室温至100℃。质保期至少2年,交货期合同签订后7个月内。 | *.00 | 2023-08 |
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