华中科技大学2023年7至9月政府意向-高真空多靶共聚焦溅射沉积系统电子工业专用生产设备-预算金额万元人民币招标预告
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华中科技大学2023年7至9月政府意向-高真空多靶共聚焦溅射沉积系统电子工业专用生产设备-预算金额万元人民币招标预告
| 高真空多靶共聚焦溅射沉积系统 | |
| 项目所在采购意向： | 华中科技大学2023年7至9月政府采购意向 |
| 采购单位： | 华中科技大学 |
| 采购项目名称： | 高真空多靶共聚焦溅射沉积系统 |
| 预算金额： | 800.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*电子工业专用生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 共两套。可加工基片尺寸：至少4英寸基片；极限真空优于5x10-8Torr；样品台可旋转，最高可加热温度850℃，配备可传送样品托盘和预真空室；配备2英寸高真空共溅射靶枪，预留2个法兰接口，可集成2个最大3英寸靶枪；带1套射频电源和2套直流电源，沉积均匀性：±2.5% @100mm基片 |
| 预计采购时间： | 2023-09 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 高真空多靶共聚焦溅射沉积系统 | |
| 项目所在采购意向： | 华中科技大学2023年7至9月政府采购意向 |
| 采购单位： | 华中科技大学 |
| 采购项目名称： | 高真空多靶共聚焦溅射沉积系统 |
| 预算金额： | 800.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*电子工业专用生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 共两套。可加工基片尺寸：至少4英寸基片；极限真空优于5x10-8Torr；样品台可旋转，最高可加热温度850℃，配备可传送样品托盘和预真空室；配备2英寸高真空共溅射靶枪，预留2个法兰接口，可集成2个最大3英寸靶枪；带1套射频电源和2套直流电源，沉积均匀性：±2.5% @100mm基片 |
| 预计采购时间： | 2023-09 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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