中国科学院微电子研究所2023年10至12月政府采购意向-12吋晶圆清洗机容器清洗机械-预算金额万元人民币

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中国科学院微电子研究所2023年10至12月政府采购意向-12吋晶圆清洗机容器清洗机械-预算金额万元人民币

12吋晶圆清洗机
项目所在采购意向: (略) 微电子研究所2023年10至12月政府采购意向
采购单位: (略) 微电子研究所
采购项目名称:12吋晶圆清洗机
预算金额:240.*万元(人民币)
采购品目:
A*-容器清洗机械
采购需求概况:
本设备 (略) 先导C项目和国家攻关工程项目的核心设备,与12吋芯片至晶圆微米级混合键合一体机配套,为12吋设备。对重构芯片晶圆与待键合晶圆实施高洁净度清洗控制,使用本设备将表面涂覆有机保护胶的晶圆进行去胶清洗以及晶圆表面沾污去除,并严格控制清洗过程中的颗粒数量控制,要求在直径300mm的晶圆键合表面尺寸>0.15um的颗粒小于70个,以利于重构晶圆即芯片至晶圆混合键合以及后续多层芯片混合键合空洞控制,并利用上述键合一体机实现芯片至晶圆混合键合工艺开发,该技术为成套技术核心设备,必须位于同一高洁净度试验室,项目需利用此设备开展晶圆键合表面清洗工艺开发,支撑芯片至晶圆键合技术和工艺开发。
预计采购时间:2023-10
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

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12吋晶圆清洗机
项目所在采购意向: (略) 微电子研究所2023年10至12月政府采购意向
采购单位: (略) 微电子研究所
采购项目名称:12吋晶圆清洗机
预算金额:240.*万元(人民币)
采购品目:
A*-容器清洗机械
采购需求概况:
本设备 (略) 先导C项目和国家攻关工程项目的核心设备,与12吋芯片至晶圆微米级混合键合一体机配套,为12吋设备。对重构芯片晶圆与待键合晶圆实施高洁净度清洗控制,使用本设备将表面涂覆有机保护胶的晶圆进行去胶清洗以及晶圆表面沾污去除,并严格控制清洗过程中的颗粒数量控制,要求在直径300mm的晶圆键合表面尺寸>0.15um的颗粒小于70个,以利于重构晶圆即芯片至晶圆混合键合以及后续多层芯片混合键合空洞控制,并利用上述键合一体机实现芯片至晶圆混合键合工艺开发,该技术为成套技术核心设备,必须位于同一高洁净度试验室,项目需利用此设备开展晶圆键合表面清洗工艺开发,支撑芯片至晶圆键合技术和工艺开发。
预计采购时间:2023-10
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

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