A* 其他试验仪器及装置

南京大学拟采购高真空镀膜系统一套，该系统主体由样品传送室、两个镀膜室和L/UL室等四个腔室和一套控制系统组成。主要需求如下：1、镀膜室：冷凝泵+干泵，极限真空≤5*10-6pa(带烘烤除气）； 2、送样室：分子泵+干泵，极限真空≤5*10-5pa；装有两片准备样品基片； 3、磁控靶组件：4套永磁靶枪装在镀膜室；靶枪尺寸:2英寸；4个靶可共同面向上溅射，溅射中心对准上部的样品中心；内水冷；靶与样品距离150mm；每个靶配气动挡板； 4、样品台：基片尺寸:2—4英寸一片；基片可连续回转，转速0-80rpm；基片加热最高温度500℃±1℃；镀膜膜厚误差＜5%； 5、样品传递组件：可将进样室的样品在不破坏真空的条件下自动传递到主真空室的样品台上； 6、工艺气体：质量流量控制器3路；流量控制100cc；Ar，N2，O2； 7、溅射电源：射频源功率300W * 2 + 500W直流溅射源*1；电源与连接靶切换为电控切换； 8、控制系统：自动控制、工艺读入、参数设置、实时监控等功能；9、设备质保期：1年。

A* 其他试验仪器及装置

南京大学拟采购高真空镀膜系统一套，该系统主体由样品传送室、两个镀膜室和L/UL室等四个腔室和一套控制系统组成。主要需求如下：1、镀膜室：冷凝泵+干泵，极限真空≤5*10-6pa(带烘烤除气）； 2、送样室：分子泵+干泵，极限真空≤5*10-5pa；装有两片准备样品基片； 3、磁控靶组件：4套永磁靶枪装在镀膜室；靶枪尺寸:2英寸；4个靶可共同面向上溅射，溅射中心对准上部的样品中心；内水冷；靶与样品距离150mm；每个靶配气动挡板； 4、样品台：基片尺寸:2—4英寸一片；基片可连续回转，转速0-80rpm；基片加热最高温度500℃±1℃；镀膜膜厚误差＜5%； 5、样品传递组件：可将进样室的样品在不破坏真空的条件下自动传递到主真空室的样品台上； 6、工艺气体：质量流量控制器3路；流量控制100cc；Ar，N2，O2； 7、溅射电源：射频源功率300W * 2 + 500W直流溅射源*1；电源与连接靶切换为电控切换； 8、控制系统：自动控制、工艺读入、参数设置、实时监控等功能；9、设备质保期：1年。