深圳大学晶圆表面活化-清洗系统意向公开-电子工业生产设备
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深圳大学晶圆表面活化-清洗系统意向公开-电子工业生产设备
| 采购单位: | 深圳大学 |
| 项目名称: | 晶圆表面活化-清洗系统 |
| 预算金额（元）: | 7,624,700.000 |
| 采购品目: | 电子工业生产设备 |
| 采购需求概况: | "适用晶圆厚度：80-800μm。 配备1MHz兆声清洗功能； 清洗介质：去离子水、稀释氨水和双氧水(SC1)； 单片清洗，晶圆片正面与背面无交叉污染； 带有IR检测，可对贴合后的质量进行检测。 设备具有低温等离子活化的专利应用许可和工艺菜单 设备由低温等离子体活化模块、工艺气体系统、真空系统、配套卡具及相关配件等部分构成。 双频射频等离子体，即同时具备高频和低频等离子体源，提供两种活化频率，可交替使用，两种等离子输出功率可编程控制，输出功率可达200W。 工艺腔室允许使用非原位工艺，即晶圆片可在腔室内分别片片激活，之后在激活腔室外进行键合。 兼容200mm及以下晶圆腔室，腔室内部覆盖无金属离子涂层，减少离子污染。 配置二级真空系统，包括干泵和涡轮分子泵，真空度可达10-3mbar。" |
| 联系人: | 王老师 |
| 联系电话: | 0755-* |
| 预计采购时间: | 2023-09 |
| 备注: | 无 |
| 采购单位: | 深圳大学 |
| 项目名称: | 晶圆表面活化-清洗系统 |
| 预算金额（元）: | 7,624,700.000 |
| 采购品目: | 电子工业生产设备 |
| 采购需求概况: | "适用晶圆厚度：80-800μm。 配备1MHz兆声清洗功能； 清洗介质：去离子水、稀释氨水和双氧水(SC1)； 单片清洗，晶圆片正面与背面无交叉污染； 带有IR检测，可对贴合后的质量进行检测。 设备具有低温等离子活化的专利应用许可和工艺菜单 设备由低温等离子体活化模块、工艺气体系统、真空系统、配套卡具及相关配件等部分构成。 双频射频等离子体，即同时具备高频和低频等离子体源，提供两种活化频率，可交替使用，两种等离子输出功率可编程控制，输出功率可达200W。 工艺腔室允许使用非原位工艺，即晶圆片可在腔室内分别片片激活，之后在激活腔室外进行键合。 兼容200mm及以下晶圆腔室，腔室内部覆盖无金属离子涂层，减少离子污染。 配置二级真空系统，包括干泵和涡轮分子泵，真空度可达10-3mbar。" |
| 联系人: | 王老师 |
| 联系电话: | 0755-* |
| 预计采购时间: | 2023-09 |
| 备注: | 无 |
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