上海大学2024年03月政府采购意向-高真空磁控物理气相沉积镀膜设备

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上海大学2024年03月政府采购意向-高真空磁控物理气相沉积镀膜设备

为便于供应商及时了解政府采购信息,根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》(财库〔2020〕10号)等有关规定,现将 上海大学2023年3月采购意向公开 如下:

序号 采购项目名称 采购需求概况 预算金额(元) 预计采购时间(填写到月) 备注
1 高真空磁控物理气相沉积镀膜设备 (1)装片腔极限真空度≤40 Pa,工艺腔须优于1×10E-4 Pa。(2)工艺腔室中靶材与基片溅射距离可通过程序自动设定,调整范围60-180 mm可调;(3)需至少配置1台RF电源和2台DC电源,RF电源最大功率不低于1 kW,DC电源最大功率不低于2 kW;(4)成膜均一性要求:片内、片间成膜厚度均匀性≤±5%;成膜厚度重复性≤±5%。(5)货期14个月以内,质保至少12个月。 *.00 2024-03
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

上海大学

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为便于供应商及时了解政府采购信息,根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》(财库〔2020〕10号)等有关规定,现将 上海大学2023年3月采购意向公开 如下:

序号 采购项目名称 采购需求概况 预算金额(元) 预计采购时间(填写到月) 备注
1 高真空磁控物理气相沉积镀膜设备 (1)装片腔极限真空度≤40 Pa,工艺腔须优于1×10E-4 Pa。(2)工艺腔室中靶材与基片溅射距离可通过程序自动设定,调整范围60-180 mm可调;(3)需至少配置1台RF电源和2台DC电源,RF电源最大功率不低于1 kW,DC电源最大功率不低于2 kW;(4)成膜均一性要求:片内、片间成膜厚度均匀性≤±5%;成膜厚度重复性≤±5%。(5)货期14个月以内,质保至少12个月。 *.00 2024-03
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

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