上海大学2024年03月政府采购意向-高真空磁控物理气相沉积镀膜设备
上海大学2024年03月政府采购意向-高真空磁控物理气相沉积镀膜设备
序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 预算金额(元) | 预计采购时间(填写到月) | 备注 |
---|---|---|---|---|---|
1 | 高真空磁控物理气相沉积镀膜设备 | (1)装片腔极限真空度≤40 Pa,工艺腔须优于1×10E-4 Pa。(2)工艺腔室中靶材与基片溅射距离可通过程序自动设定,调整范围60-180 mm可调;(3)需至少配置1台RF电源和2台DC电源,RF电源最大功率不低于1 kW,DC电源最大功率不低于2 kW;(4)成膜均一性要求:片内、片间成膜厚度均匀性≤±5%;成膜厚度重复性≤±5%。(5)货期14个月以内,质保至少12个月。 | *.00 | 2024-03 |
/
序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 预算金额(元) | 预计采购时间(填写到月) | 备注 |
---|---|---|---|---|---|
1 | 高真空磁控物理气相沉积镀膜设备 | (1)装片腔极限真空度≤40 Pa,工艺腔须优于1×10E-4 Pa。(2)工艺腔室中靶材与基片溅射距离可通过程序自动设定,调整范围60-180 mm可调;(3)需至少配置1台RF电源和2台DC电源,RF电源最大功率不低于1 kW,DC电源最大功率不低于2 kW;(4)成膜均一性要求:片内、片间成膜厚度均匀性≤±5%;成膜厚度重复性≤±5%。(5)货期14个月以内,质保至少12个月。 | *.00 | 2024-03 |
/
最近搜索
无
热门搜索
无