光刻机其他仪器仪表-预算金额万元人民币招标预告
发送至邮箱
光刻机其他仪器仪表-预算金额万元人民币招标预告
| 光刻机 | |
| 项目所在采购意向： | 东华大学2023年9至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 东华大学 |
| 采购项目名称： | 光刻机 |
| 预算金额： | 240.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*其他仪器仪表 |
| 采购需求概况 ： | 为支持半导体与微纳电子器件研究和教学需求，东华大学计划采购SUSS MA/BA6 GEN4半自动光刻机1套。 采购标的需实现的主要功能或者目标：实现高精度的掩膜光刻对准和曝光，服务半导体器件制备和微纳图案化。分辨率优于0.8um (i线，光刻胶厚度1um，真空接触，等间距图形)；365nm下的光强 55mw/cm2，光强均匀性优于±2.5％；正面对准精度±0.5um；设计符合人体工程学，用户界面友好，占用面积小，适合于学术研究及小批量生产使用，可快速地转化为自动化掩膜对准机大批量生产工艺。 |
| 预计采购时间： | 2023-10 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 光刻机 | |
| 项目所在采购意向： | 东华大学2023年9至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 东华大学 |
| 采购项目名称： | 光刻机 |
| 预算金额： | 240.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*其他仪器仪表 |
| 采购需求概况 ： | 为支持半导体与微纳电子器件研究和教学需求，东华大学计划采购SUSS MA/BA6 GEN4半自动光刻机1套。 采购标的需实现的主要功能或者目标：实现高精度的掩膜光刻对准和曝光，服务半导体器件制备和微纳图案化。分辨率优于0.8um (i线，光刻胶厚度1um，真空接触，等间距图形)；365nm下的光强 55mw/cm2，光强均匀性优于±2.5％；正面对准精度±0.5um；设计符合人体工程学，用户界面友好，占用面积小，适合于学术研究及小批量生产使用，可快速地转化为自动化掩膜对准机大批量生产工艺。 |
| 预计采购时间： | 2023-10 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
招投标大数据
最近搜索
无
热门搜索
无
