东华大学2023年9至12月政府意向-东华大学光刻机更正公告其他仪器仪表-预算金额万元人民币招标预告

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东华大学2023年9至12月政府意向-东华大学光刻机更正公告其他仪器仪表-预算金额万元人民币招标预告


(略) 光刻机采购项目更正公告
(略) 在采购意向: (略) 2023年9至12月政府采购意向
采购单位: (略)
采购项目名称: (略) 光刻机采购项目更正公告
预算金额: 点击查看>> 00万元(人民币)
采购品目:
A 点击查看>> 其他仪器仪表
采购需求概况 :
为支持半导体与微纳电子器件研究和教学需求, (略) 计划采购光刻机1套。 采购标的需实现的主要功能或者目标:实现高精度的掩膜光刻对准和曝光,服务半导体器件制备和微纳图案化。分辨率优于0.8um (i线,光刻胶厚度1um,真空接触,等间距图形);365nm下的光强 55mw/cm2,光强均匀性优于±2.5%;正面对准精度±0.5um;设计符合人体工程学,用户界面友好,占用面积小,适合于学术研究及小批量生产使用,可快速地转化为自动化掩膜对准机大批量生产工艺。
预计采购时间:2023-10
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。




(略) 光刻机采购项目更正公告
(略) 在采购意向: (略) 2023年9至12月政府采购意向
采购单位: (略)
采购项目名称: (略) 光刻机采购项目更正公告
预算金额: 点击查看>> 00万元(人民币)
采购品目:
A 点击查看>> 其他仪器仪表
采购需求概况 :
为支持半导体与微纳电子器件研究和教学需求, (略) 计划采购光刻机1套。 采购标的需实现的主要功能或者目标:实现高精度的掩膜光刻对准和曝光,服务半导体器件制备和微纳图案化。分辨率优于0.8um (i线,光刻胶厚度1um,真空接触,等间距图形);365nm下的光强 55mw/cm2,光强均匀性优于±2.5%;正面对准精度±0.5um;设计符合人体工程学,用户界面友好,占用面积小,适合于学术研究及小批量生产使用,可快速地转化为自动化掩膜对准机大批量生产工艺。
预计采购时间:2023-10
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。



    
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