A*其他电气设备

拟采购 磁控溅射一台 满足以下需求1 主腔体1.1 超高真空兼容主腔体，材质SS316，全金属密封；1.2 配有进口分子泵，抽速不小于650L/s，以及进口前级泵（干泵），抽速不小于4.1L/s，分子泵与主腔体之间配备手动闸板阀；★1.3 配备进口离子泵+钛升华泵组合泵，包含控制器、电源，以及可烘烤高压线缆；配备气动闸板阀，本底真空优于9x10-8 Pa；▲1.4 配有2套进口真空计，包含全量程规以及薄膜规，其中全量程规量程5x10-8 Pa~1 atm，薄膜规量程10-3 Pa~10Pa；1.5 腔体至少留有6个2英寸靶位，所有观察窗配有挡板；2 进样室2.1 进样室配有手动传样磁力杆，以及气动闸板阀；▲2.2. 配有样品存储台，可自动升降，可存储至少5个样品；2.3 抽气系统包括进口分子泵，抽速不小于67 L/s，以及前级隔膜泵，本底真空优于 5x10-5 Pa；2.4 配有全量程真空规，量程5x10-7 Pa~1 atm；3 样品台▲3.1 最大基片尺寸：5英寸；加热温度：最高500°C，稳定性：±1°C；★3.2 样品台可兼容5英寸以下的样品，同时可兼容直径6mm及以下的柱状样品；3.3 基片移动范围 Z方向100mm（调整靶基距），电机控制；连续旋转phi≤10 RPM，精度0.1°，电机控制；3.4 衬底配有挡板，电动控制；4溅射靶枪★4.1 配有4个2英寸靶枪，靶枪具有倾斜功能，可不破真空实时程序自动调节靶头与基片之间的溅射角度，实现自动对焦；4.2 靶枪配有气动挡板，防止交叉污染；4.3 配有2台进口直流电源，功率不小于500W；4.4 配有2台进口射频电源，功率不小于300 W、13.56 MHz、可自动调谐；5 气路系统5.1 配有3个工艺气路，可通氧气、氩气、氮气。配备进口质量流量计3套（流量0-50 SCCM）；5.2 配有1个放气用的氮气气路；5.3 每个气路均配有气动阀门；★5.4将闸板阀关闭到预定位置，流量计自动调节气体流量达到需要压力，实现自动控制工艺气压；6 膜厚仪6.1 进口高精度膜厚仪1套；6.2 包括石英晶体10片，传感器1套；6.3 频率测量分辨率：± 0.03 Hz, 在 6 MHz；测量频率范围：1-6.5 MHz；厚度和速率分辨率/测量：±0.03 ？；6.4 配备冷却水，保证测量的稳定性；7 控制系统8 水冷系统

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拟采购 磁控溅射一台 满足以下需求1 主腔体1.1 超高真空兼容主腔体，材质SS316，全金属密封；1.2 配有进口分子泵，抽速不小于650L/s，以及进口前级泵（干泵），抽速不小于4.1L/s，分子泵与主腔体之间配备手动闸板阀；★1.3 配备进口离子泵+钛升华泵组合泵，包含控制器、电源，以及可烘烤高压线缆；配备气动闸板阀，本底真空优于9x10-8 Pa；▲1.4 配有2套进口真空计，包含全量程规以及薄膜规，其中全量程规量程5x10-8 Pa~1 atm，薄膜规量程10-3 Pa~10Pa；1.5 腔体至少留有6个2英寸靶位，所有观察窗配有挡板；2 进样室2.1 进样室配有手动传样磁力杆，以及气动闸板阀；▲2.2. 配有样品存储台，可自动升降，可存储至少5个样品；2.3 抽气系统包括进口分子泵，抽速不小于67 L/s，以及前级隔膜泵，本底真空优于 5x10-5 Pa；2.4 配有全量程真空规，量程5x10-7 Pa~1 atm；3 样品台▲3.1 最大基片尺寸：5英寸；加热温度：最高500°C，稳定性：±1°C；★3.2 样品台可兼容5英寸以下的样品，同时可兼容直径6mm及以下的柱状样品；3.3 基片移动范围 Z方向100mm（调整靶基距），电机控制；连续旋转phi≤10 RPM，精度0.1°，电机控制；3.4 衬底配有挡板，电动控制；4溅射靶枪★4.1 配有4个2英寸靶枪，靶枪具有倾斜功能，可不破真空实时程序自动调节靶头与基片之间的溅射角度，实现自动对焦；4.2 靶枪配有气动挡板，防止交叉污染；4.3 配有2台进口直流电源，功率不小于500W；4.4 配有2台进口射频电源，功率不小于300 W、13.56 MHz、可自动调谐；5 气路系统5.1 配有3个工艺气路，可通氧气、氩气、氮气。配备进口质量流量计3套（流量0-50 SCCM）；5.2 配有1个放气用的氮气气路；5.3 每个气路均配有气动阀门；★5.4将闸板阀关闭到预定位置，流量计自动调节气体流量达到需要压力，实现自动控制工艺气压；6 膜厚仪6.1 进口高精度膜厚仪1套；6.2 包括石英晶体10片，传感器1套；6.3 频率测量分辨率：± 0.03 Hz, 在 6 MHz；测量频率范围：1-6.5 MHz；厚度和速率分辨率/测量：±0.03 ？；6.4 配备冷却水，保证测量的稳定性；7 控制系统8 水冷系统