感应耦合等离子SiC刻蚀系统电子工业生产设备-预算金额万元人民币招标预告
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感应耦合等离子SiC刻蚀系统电子工业生产设备-预算金额万元人民币招标预告
| 感应耦合等离子SiC刻蚀系统 | |
| 项目所在采购意向： | 华南理工大学2023年11月政府采购意向 |
| 采购单位： | 华南理工大学 |
| 采购项目名称： | 感应耦合等离子SiC刻蚀系统 |
| 预算金额： | 300.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*电子工业生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 1、购置总量：1套 2、发货日期：签订合同8个月内发货 3、技术目标：该设备用于碳化硅材料的干法刻蚀，可实现纳米及微米尺度的刻蚀深度控制，设备可应用于能源、物理学、微电子、纳米技术等领域。 4、配制要求： （1） ICP腔室：具有高密度、高能量的刻蚀能力。 （2）腔室采用进口6061铝材质，带观察窗口；外壳表面丝印，防腐设计。 （3）配备下电极静电卡盘ESC，ESC吸附电压 10KV；满足8英寸晶圆，向下兼容8英寸（含8英寸）以下晶圆及小片作业； （4）下电极温控系统：配置1台Chiller，控温范围-20℃~90℃，温度控制精度±0.5℃，基座控温均匀性±1℃； （5）真空系统：分子泵抽速不低于2650L/s；前级干泵抽速不低900m3/h； （6）腔室极限真空优于5x10-2mTorr，腔室漏气率优于1mTorr/min，控压范围5mTorr~85mTorr，控压精度±0.1mTorr，至少配置两个真空计； （7）反应腔室壁温度控制：上、中、后腔室温度控制：室温~80℃；上顶板温度控制：采用高温Chiller，控温范围室温~100℃。 （8）等离子体系统: 配备3套射频电源及匹配器； （9）上电极系统：Source射频电源功率3000W，可用功率范围500-2400W可调，13.56MHz, 带自动匹配器； （10）下电极系统：Bias射频电源功率1500W，可用功率范围至少50-600W可调，13.56MHz, 带自动匹配器;射频匹配速度＜3s，RF精确度≤±1%设定值或±0.5W（以较大值为准），反射功率≤2%设定值； （11）气路传送系统: 配置至少8路工艺气路，并配置气体流量调控器； （12）传送模块：手动传输自动工艺:配备Loadlock传送腔室； 5、技术服务 （1）卖方应在买方所在地提供仪器的安装、校验和试运转，并提供用户硬件测试报告及工艺验收报告详细数据。 （2）对于新的材料，厂家提供免费工艺制程的支持服务，并分享相关工艺数据库信息。 （3）技术培训：在用户现场对用户进行至少5天的免费培训。 （4）保修期：提供1年免费保修，保修期自验收签字之日起计算。 （5）维修响应时间：卖方应在24小时内对用户的服务要求做出响应，如电话沟通不能解决，维修人员应在5个工作日内到达用户现场解决。 |
| 预计采购时间： | 2023-11 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 感应耦合等离子SiC刻蚀系统 | |
| 项目所在采购意向： | 华南理工大学2023年11月政府采购意向 |
| 采购单位： | 华南理工大学 |
| 采购项目名称： | 感应耦合等离子SiC刻蚀系统 |
| 预算金额： | 300.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*电子工业生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 1、购置总量：1套 2、发货日期：签订合同8个月内发货 3、技术目标：该设备用于碳化硅材料的干法刻蚀，可实现纳米及微米尺度的刻蚀深度控制，设备可应用于能源、物理学、微电子、纳米技术等领域。 4、配制要求： （1） ICP腔室：具有高密度、高能量的刻蚀能力。 （2）腔室采用进口6061铝材质，带观察窗口；外壳表面丝印，防腐设计。 （3）配备下电极静电卡盘ESC，ESC吸附电压 10KV；满足8英寸晶圆，向下兼容8英寸（含8英寸）以下晶圆及小片作业； （4）下电极温控系统：配置1台Chiller，控温范围-20℃~90℃，温度控制精度±0.5℃，基座控温均匀性±1℃； （5）真空系统：分子泵抽速不低于2650L/s；前级干泵抽速不低900m3/h； （6）腔室极限真空优于5x10-2mTorr，腔室漏气率优于1mTorr/min，控压范围5mTorr~85mTorr，控压精度±0.1mTorr，至少配置两个真空计； （7）反应腔室壁温度控制：上、中、后腔室温度控制：室温~80℃；上顶板温度控制：采用高温Chiller，控温范围室温~100℃。 （8）等离子体系统: 配备3套射频电源及匹配器； （9）上电极系统：Source射频电源功率3000W，可用功率范围500-2400W可调，13.56MHz, 带自动匹配器； （10）下电极系统：Bias射频电源功率1500W，可用功率范围至少50-600W可调，13.56MHz, 带自动匹配器;射频匹配速度＜3s，RF精确度≤±1%设定值或±0.5W（以较大值为准），反射功率≤2%设定值； （11）气路传送系统: 配置至少8路工艺气路，并配置气体流量调控器； （12）传送模块：手动传输自动工艺:配备Loadlock传送腔室； 5、技术服务 （1）卖方应在买方所在地提供仪器的安装、校验和试运转，并提供用户硬件测试报告及工艺验收报告详细数据。 （2）对于新的材料，厂家提供免费工艺制程的支持服务，并分享相关工艺数据库信息。 （3）技术培训：在用户现场对用户进行至少5天的免费培训。 （4）保修期：提供1年免费保修，保修期自验收签字之日起计算。 （5）维修响应时间：卖方应在24小时内对用户的服务要求做出响应，如电话沟通不能解决，维修人员应在5个工作日内到达用户现场解决。 |
| 预计采购时间： | 2023-11 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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