国科大杭州高等研究院2023年10月至12月政府采购意向-激光直写曝光系统
国科大杭州高等研究院2023年10月至12月政府采购意向-激光直写曝光系统
国科大杭 (略) 2023年10月至12月政府采购意向
序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 预算金额(元) | 预计采购时间(填写到月) | 落实政府采购政策功能情况 | 备注 |
1 | 激光直写曝光系统 | 拟采购的微纳结构加工系统采用聚焦光斑直写式工作模式,其无需物理掩膜 版,实验灵活高效,同时直写分辨率可达到0.3μm的精细特征尺寸,可同时满足实验效率及灵活性,以及加工精度的要求。主要指标:1、光源:405nm 激光器;2、最小分辨率300nm;3、线宽均匀性不大于 200nm;4、边缘粗糙度不大于 100nm;5、最大曝光面积不小于 100mm×100mm;6、支持基板尺寸范围:5mm×5mm~125mm×125mm;7、自动聚焦:红外自动光学聚焦,光刻过程中能实时聚焦;8、支持 4096 阶灰度曝光功能;9、支持多层套刻,套刻对准精度不大于 500nm;10、支持多种光刻精度自动切换(300nm、600nm、900nm),无需手动更换光学镜头,软件控制自动切换;11、无需物理掩膜板。 | * | 2023年12月 | 杨老师:* |
国科大杭 (略) 2023年10月至12月政府采购意向
序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 预算金额(元) | 预计采购时间(填写到月) | 落实政府采购政策功能情况 | 备注 |
1 | 激光直写曝光系统 | 拟采购的微纳结构加工系统采用聚焦光斑直写式工作模式,其无需物理掩膜 版,实验灵活高效,同时直写分辨率可达到0.3μm的精细特征尺寸,可同时满足实验效率及灵活性,以及加工精度的要求。主要指标:1、光源:405nm 激光器;2、最小分辨率300nm;3、线宽均匀性不大于 200nm;4、边缘粗糙度不大于 100nm;5、最大曝光面积不小于 100mm×100mm;6、支持基板尺寸范围:5mm×5mm~125mm×125mm;7、自动聚焦:红外自动光学聚焦,光刻过程中能实时聚焦;8、支持 4096 阶灰度曝光功能;9、支持多层套刻,套刻对准精度不大于 500nm;10、支持多种光刻精度自动切换(300nm、600nm、900nm),无需手动更换光学镜头,软件控制自动切换;11、无需物理掩膜板。 | * | 2023年12月 | 杨老师:* |
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