武汉大学2023年11至12月政府采购意向-磁控溅射镀膜机真空应用设备-预算金额万元人民币
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武汉大学2023年11至12月政府采购意向-磁控溅射镀膜机真空应用设备-预算金额万元人民币
| 磁控溅射镀膜机 | |
| 项目所在采购意向： | 武汉大学2023年11至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 武汉大学 |
| 采购项目名称： | 磁控溅射镀膜机 |
| 预算金额： | 180.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*真空应用设备 |
| 采购需求概况： | （一）采购标的名称：磁控溅射镀膜机（二）采购标的需实现的主要功能或目标：1、304不锈钢方腔，工艺腔内部尺寸约为宽 380mm x深 415mm x高 600mm，适用于最大直径150mm的基片；2、基本配置包含分子泵，抽速大于750L/s，分子泵转速可调，以及抽速大于7.0cfm @ 60Hz的油封机械泵；3、主腔室配置全量程真空计，测量范围由大气至10-9 Torr（离子规和低真空规），进样室配置全量程真空计；4、适用于六个溅射靶枪的底法兰，最多可装6个2英寸或3英寸的靶枪，沉积速率可调，薄膜均匀度小于±5%；5、质保期1年，交货期8个月。（三）采购标的数量：1台 |
| 预计采购时间： | 2023-12 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 磁控溅射镀膜机 | |
| 项目所在采购意向： | 武汉大学2023年11至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 武汉大学 |
| 采购项目名称： | 磁控溅射镀膜机 |
| 预算金额： | 180.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*真空应用设备 |
| 采购需求概况： | （一）采购标的名称：磁控溅射镀膜机（二）采购标的需实现的主要功能或目标：1、304不锈钢方腔，工艺腔内部尺寸约为宽 380mm x深 415mm x高 600mm，适用于最大直径150mm的基片；2、基本配置包含分子泵，抽速大于750L/s，分子泵转速可调，以及抽速大于7.0cfm @ 60Hz的油封机械泵；3、主腔室配置全量程真空计，测量范围由大气至10-9 Torr（离子规和低真空规），进样室配置全量程真空计；4、适用于六个溅射靶枪的底法兰，最多可装6个2英寸或3英寸的靶枪，沉积速率可调，薄膜均匀度小于±5%；5、质保期1年，交货期8个月。（三）采购标的数量：1台 |
| 预计采购时间： | 2023-12 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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