上海交通大学2023年12月政府采购意向-多靶磁控溅射镀膜系统电子工业生产设备-预算金额万元人民币
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上海交通大学2023年12月政府采购意向-多靶磁控溅射镀膜系统电子工业生产设备-预算金额万元人民币
| 多靶磁控溅射镀膜系统 | |
| 项目所在采购意向： | 上海交通大学2023年12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 上海交通大学 |
| 采购项目名称： | 多靶磁控溅射镀膜系统 |
| 预算金额： | 220.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*电子工业生产设备 |
| 采购需求概况： | 多靶磁控溅射镀膜系统，数量1套，8寸内多片自动进样式磁控溅射，可直接溅射金属和介质材料，并可采用反应溅射的方法制备Al2O3、SiO2等薄膜，是集成工艺中薄膜制备的关键工艺，通过感应合 (ICP) 方式产生高密度等离子体，在半导体衬底上沉积高质量的 BPSG(磷硅玻璃)薄膜、介质薄膜(例如氧化硅SiO2、氮化硅SiNx、氮氧硅SiOxNv)、非晶硅、微晶硅、Si碳化硅、DLC类金刚石等多种膜层。沉积温度可从室温到+300°C(可选到+400°C)，满足车规级产品技术要求沉积各种金属、氧化物（银、铝、钛、镍、铬、锌、铜、钨、锗、氮化钛、二氧化硅、ITO），具体要求见采购文件。供货周期为合同签订后6个月内，到采购人指定的地点并安装验收完毕（包括供货、安装、调试、验收合格）。具体事宜由成交供应商按采购人指定地点及时间安排要求执行。 |
| 预计采购时间： | 2023-12 |
| 备注： | 国产设备优先 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 多靶磁控溅射镀膜系统 | |
| 项目所在采购意向： | 上海交通大学2023年12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 上海交通大学 |
| 采购项目名称： | 多靶磁控溅射镀膜系统 |
| 预算金额： | 220.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*电子工业生产设备 |
| 采购需求概况： | 多靶磁控溅射镀膜系统，数量1套，8寸内多片自动进样式磁控溅射，可直接溅射金属和介质材料，并可采用反应溅射的方法制备Al2O3、SiO2等薄膜，是集成工艺中薄膜制备的关键工艺，通过感应合 (ICP) 方式产生高密度等离子体，在半导体衬底上沉积高质量的 BPSG(磷硅玻璃)薄膜、介质薄膜(例如氧化硅SiO2、氮化硅SiNx、氮氧硅SiOxNv)、非晶硅、微晶硅、Si碳化硅、DLC类金刚石等多种膜层。沉积温度可从室温到+300°C(可选到+400°C)，满足车规级产品技术要求沉积各种金属、氧化物（银、铝、钛、镍、铬、锌、铜、钨、锗、氮化钛、二氧化硅、ITO），具体要求见采购文件。供货周期为合同签订后6个月内，到采购人指定的地点并安装验收完毕（包括供货、安装、调试、验收合格）。具体事宜由成交供应商按采购人指定地点及时间安排要求执行。 |
| 预计采购时间： | 2023-12 |
| 备注： | 国产设备优先 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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