西安电子科技大学2024年3月政府采购意向-电子束光刻机电子工业生产设备-预算金额万元人民币

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西安电子科技大学2024年3月政府采购意向-电子束光刻机电子工业生产设备-预算金额万元人民币

电子束光刻机
项目所在采购意向: 西安电子科技大学2024年3月政府采购意向
采购单位: 西安电子科技大学
采购项目名称: 电子束光刻机
预算金额: 1600.*万元(人民币)
采购品目:
A* 电子工业生产设备
采购需求概况:
标的:电子束光刻机数量:1台主要技术指标:1.采用肖特基热场发射电子束源,加速电压不低于50kV。2.束电流范围为~300 pA到40 nA。3.图形发生器扫描频率为50MHz,20bit分辨率。4.设备最大写场不小于1000μm。5.设备可实现自动聚焦、象散、写场畸变等校准功能;实现多样片自动套刻曝光。6.配备激光干涉工作台,XY方向运动行程不小于150 mm×150 mm。激光干涉仪测量分辨率不大于1nm。7. 通过精密控制样品台连续运动,实现无写场拼接曝光模式,适合于长线条和周期结构的曝光8. 设备配备自动高度传感器,实现样品表面高度的自动探测和聚焦。9. 设备配备二次电子探测器,可实现对准标记识别、电子束成像的功能。10. 配备一个通用样品架,可承载散片或4英寸晶圆及以下的样片。配备3inch,4inch,6inch晶圆样品架,多样片样品架各一个。
预计采购时间: 2024-03
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

,西安
电子束光刻机
项目所在采购意向: 西安电子科技大学2024年3月政府采购意向
采购单位: 西安电子科技大学
采购项目名称: 电子束光刻机
预算金额: 1600.*万元(人民币)
采购品目:
A* 电子工业生产设备
采购需求概况:
标的:电子束光刻机数量:1台主要技术指标:1.采用肖特基热场发射电子束源,加速电压不低于50kV。2.束电流范围为~300 pA到40 nA。3.图形发生器扫描频率为50MHz,20bit分辨率。4.设备最大写场不小于1000μm。5.设备可实现自动聚焦、象散、写场畸变等校准功能;实现多样片自动套刻曝光。6.配备激光干涉工作台,XY方向运动行程不小于150 mm×150 mm。激光干涉仪测量分辨率不大于1nm。7. 通过精密控制样品台连续运动,实现无写场拼接曝光模式,适合于长线条和周期结构的曝光8. 设备配备自动高度传感器,实现样品表面高度的自动探测和聚焦。9. 设备配备二次电子探测器,可实现对准标记识别、电子束成像的功能。10. 配备一个通用样品架,可承载散片或4英寸晶圆及以下的样片。配备3inch,4inch,6inch晶圆样品架,多样片样品架各一个。
预计采购时间: 2024-03
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

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