清华大学2024年2月政府采购意向-反应离子刻蚀-A-货物设备_A0-预算金额万元人民币
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清华大学2024年2月政府采购意向-反应离子刻蚀-A-货物设备_A0-预算金额万元人民币
| 反应离子刻蚀 | |
| 项目所在采购意向： | 清华大学2024年2月政府采购意向 |
| 采购单位： | 清华大学 |
| 采购项目名称： | 反应离子刻蚀 |
| 预算金额： | 200.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A-货物_A*-设备_A*-机械设备_A*-真空获得及应用设备_A*-真空应用设备 |
| 采购需求概况： | 反应离子刻蚀机是研发用干法刻蚀工艺的基本型和经济型设备，适用于广泛的刻蚀工艺，例如刻蚀硅，氧化硅，金属，三五族化合物和聚合物。主要技术指标，反应室容量大于4寸，刻蚀均匀性6寸范围内小于5%，射频功率为60-600W连续可调，自动匹配，反射功率小于5W，工艺气体包含CHF3，SF6，Ar，O2，CF4，反应室漏率<1×10-8Pa？m３/sec，极限真空小于3×10-4Pa，极限真空< 3×10-4Pa。 采购数量为一台，设备的质保期为验收合格后一年，仪器到货后，卖方需在接到用户通知后5个工作日内进行安装调试；卖方应在买方所在地提供仪器的安装、校验和试运转，其全部要求应符合技术条款要求；安调结束后由买卖双方按照技术条款要求对设备进行验收；卖方提供现场操作使用及基本维护的免费培训；培训内容包括设备的技术原理、操作、数据处理、基本维护等。 |
| 预计采购时间： | 2024-02 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 反应离子刻蚀 | |
| 项目所在采购意向： | 清华大学2024年2月政府采购意向 |
| 采购单位： | 清华大学 |
| 采购项目名称： | 反应离子刻蚀 |
| 预算金额： | 200.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A-货物_A*-设备_A*-机械设备_A*-真空获得及应用设备_A*-真空应用设备 |
| 采购需求概况： | 反应离子刻蚀机是研发用干法刻蚀工艺的基本型和经济型设备，适用于广泛的刻蚀工艺，例如刻蚀硅，氧化硅，金属，三五族化合物和聚合物。主要技术指标，反应室容量大于4寸，刻蚀均匀性6寸范围内小于5%，射频功率为60-600W连续可调，自动匹配，反射功率小于5W，工艺气体包含CHF3，SF6，Ar，O2，CF4，反应室漏率<1×10-8Pa？m３/sec，极限真空小于3×10-4Pa，极限真空< 3×10-4Pa。 采购数量为一台，设备的质保期为验收合格后一年，仪器到货后，卖方需在接到用户通知后5个工作日内进行安装调试；卖方应在买方所在地提供仪器的安装、校验和试运转，其全部要求应符合技术条款要求；安调结束后由买卖双方按照技术条款要求对设备进行验收；卖方提供现场操作使用及基本维护的免费培训；培训内容包括设备的技术原理、操作、数据处理、基本维护等。 |
| 预计采购时间： | 2024-02 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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