深圳大学高真空电子束蒸发薄膜制备设备意向公开-真空应用设备
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深圳大学高真空电子束蒸发薄膜制备设备意向公开-真空应用设备
| 采购单位: | 深圳大学 |
| 项目名称: | 高真空电子束蒸发薄膜制备设备 |
| 预算金额（元）: | 1,900,000.000 |
| 采购品目: | 真空应用设备 |
| 采购需求概况: | 用于4英寸样品的高真空电子束蒸发薄膜制备，主要组件与参数如下：6 kW电子束源，含6坩埚靶位，带电子束束斑扫描控制器；主工艺腔高度≥ 800 mm，带全量程真空计，真空系统采用前级干泵 涡轮分子泵配置，极限真空≤ 7.5×10-8 Torr；石英晶振膜厚计和控制器，镀率厚度分辨率≤ 0.015 ？/s；4英寸旋转样品台，带循环水冷；配备Load-lock进样仓，满足4英寸样品进样，带全量程真空计，真空系统采用前级干泵 涡轮分子泵配置，极限真空≤7.5×10-6 Torr；PLC控制系统，用于真空系统和电子束蒸发系统的参数监测和控制。 |
| 联系人: | 尚老师 |
| 联系电话: | * |
| 预计采购时间: | 2024-02 |
| 备注: | 无 |
| 采购单位: | 深圳大学 |
| 项目名称: | 高真空电子束蒸发薄膜制备设备 |
| 预算金额（元）: | 1,900,000.000 |
| 采购品目: | 真空应用设备 |
| 采购需求概况: | 用于4英寸样品的高真空电子束蒸发薄膜制备，主要组件与参数如下：6 kW电子束源，含6坩埚靶位，带电子束束斑扫描控制器；主工艺腔高度≥ 800 mm，带全量程真空计，真空系统采用前级干泵 涡轮分子泵配置，极限真空≤ 7.5×10-8 Torr；石英晶振膜厚计和控制器，镀率厚度分辨率≤ 0.015 ？/s；4英寸旋转样品台，带循环水冷；配备Load-lock进样仓，满足4英寸样品进样，带全量程真空计，真空系统采用前级干泵 涡轮分子泵配置，极限真空≤7.5×10-6 Torr；PLC控制系统，用于真空系统和电子束蒸发系统的参数监测和控制。 |
| 联系人: | 尚老师 |
| 联系电话: | * |
| 预计采购时间: | 2024-02 |
| 备注: | 无 |
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