深圳技术大学化学辅助离子束刻蚀机意向公开-其他仪器仪表
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深圳技术大学化学辅助离子束刻蚀机意向公开-其他仪器仪表
| 采购单位: | 深圳技术大学 |
| 项目名称: | 化学辅助离子束刻蚀机 |
| 预算金额（元）: | 9,260,000.000 |
| 采购品目: | 其他仪器仪表 |
| 采购需求概况: | 拟购置的湿法刻蚀清洗机一套，配置参数包括： 1.晶圆尺寸：8英寸、6英寸、4英寸、3英寸兼容； 2.样品台可加热： 10°C~300°C ； 3.离子源：气体等离子体源； 4.射频源，2M Hz,≥3000W自动匹配; 5.离子束有效束径≥ 300mm； 6.工艺气路：两路Ar，一路用于离子源，一路用于中和器； 7.辅助工艺气路：CL2、O2、CHF3、CF4 、SF6，样品台附近供气； 8.真空腔室样品台可旋转、可倾斜； 9.设备包含预真空腔和真空腔； 10.均匀性WIW:σ<2% 、WTW:σ<2%； |
| 联系人: | 吴国才 |
| 联系电话: | 0755-* |
| 预计采购时间: | 2024-02 |
| 备注: | 无 |
| 采购单位: | 深圳技术大学 |
| 项目名称: | 化学辅助离子束刻蚀机 |
| 预算金额（元）: | 9,260,000.000 |
| 采购品目: | 其他仪器仪表 |
| 采购需求概况: | 拟购置的湿法刻蚀清洗机一套，配置参数包括： 1.晶圆尺寸：8英寸、6英寸、4英寸、3英寸兼容； 2.样品台可加热： 10°C~300°C ； 3.离子源：气体等离子体源； 4.射频源，2M Hz,≥3000W自动匹配; 5.离子束有效束径≥ 300mm； 6.工艺气路：两路Ar，一路用于离子源，一路用于中和器； 7.辅助工艺气路：CL2、O2、CHF3、CF4 、SF6，样品台附近供气； 8.真空腔室样品台可旋转、可倾斜； 9.设备包含预真空腔和真空腔； 10.均匀性WIW:σ<2% 、WTW:σ<2%； |
| 联系人: | 吴国才 |
| 联系电话: | 0755-* |
| 预计采购时间: | 2024-02 |
| 备注: | 无 |
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