中国科学院微电子研究所2024年9至12月政府采购意向-二维半导体MOCVD设备电子工业生产设备-预算金额万元人民币

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中国科学院微电子研究所2024年9至12月政府采购意向-二维半导体MOCVD设备电子工业生产设备-预算金额万元人民币

二维半导体MOCVD设备
项目所在采购意向: (略) 微电子研究所2024年9至12月政府采购意向
采购单位: (略) 微电子研究所
采购项目名称: 二维半导体MOCVD设备
预算金额: 2000.*万元(人民币)
采购品目:
A*-电子工业生产设备
采购需求概况:
采购八英寸晶圆级二维材料金属有机化学气相沉积设备1台,具备绝缘衬底上(蓝宝石、二氧化硅)生长 8 英寸晶圆级二维半导体材料(主要是过渡金属硫化物)及其异质结的工艺能力,且尺寸可向下兼容;生长出的材料均匀度 >99%, 缺陷密度 <1*1013 cm-2,单一晶畴取向,可重复性高;设备配备两个腔室淋浴喷头,无腔室前预反应;具备多温区加热和旋转,加热范围 300-1400 摄氏度。目前先导中心没有这类设备,无法满足项目的研制需求,故需要专门配置购置。
预计采购时间: 2024-09
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

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二维半导体MOCVD设备
项目所在采购意向: (略) 微电子研究所2024年9至12月政府采购意向
采购单位: (略) 微电子研究所
采购项目名称: 二维半导体MOCVD设备
预算金额: 2000.*万元(人民币)
采购品目:
A*-电子工业生产设备
采购需求概况:
采购八英寸晶圆级二维材料金属有机化学气相沉积设备1台,具备绝缘衬底上(蓝宝石、二氧化硅)生长 8 英寸晶圆级二维半导体材料(主要是过渡金属硫化物)及其异质结的工艺能力,且尺寸可向下兼容;生长出的材料均匀度 >99%, 缺陷密度 <1*1013 cm-2,单一晶畴取向,可重复性高;设备配备两个腔室淋浴喷头,无腔室前预反应;具备多温区加热和旋转,加热范围 300-1400 摄氏度。目前先导中心没有这类设备,无法满足项目的研制需求,故需要专门配置购置。
预计采购时间: 2024-09
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

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