松山湖材料实验室2024年03月至2024年05月政府采购意向-松山湖材料实验室硅外延设备采购项目
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松山湖材料实验室2024年03月至2024年05月政府采购意向-松山湖材料实验室硅外延设备采购项目
为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕10号）等有关规定，现将本单位2024年03月至2024年05月采购意向公开如下：
| 序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 落实政府采购政策情况 | 预算金额(元) | 预计采购时间 | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 松山湖材料实验室硅外延设备采购项目 | 标的名称：硅外延设备 标的数量：1 主要功能或目标：主要用于6寸 和 8寸基底上MEMS和CIS图像传感器等器件中 N 型及 P 型薄膜材料外延生长，主要包括单晶硅和多晶硅薄膜高温沉积； 需满足的要求： 1、传输模块装有机械手和aligner，实现晶片在传输模块和工艺模块之间的精确传输； 2、实现硅外延工艺的自动控制； 可实现P型和N型掺杂； 3、工艺腔室最高温度：＞1170℃ ； 4、本征单晶硅：≤1E14 atom/cm3； 5、金属污染：＜5E10atom/cm2； 6、8寸厚度均匀性：WIW≤1.5%，RTR≤1%； 7、8寸N型电阻率均匀性：WIW≤2.5%，RTR≤1%。 | 遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 | 9,* | 2024年04月 | |
| 2 | 松山湖材料实验室ALD设备采购项目 | 标的名称：ALD设备 标的数量：1 主要功能或目标：主要用于TiN、SiN等功能材料的原子层沉积，可在平片和高深宽比沟槽、微孔阵列内表面制备均匀的纳米级厚度的功能薄膜，适用于超薄、厚度精确、均匀性好、覆盖性好等方面有很高要求的工艺 需满足的要求："1、配备加热和等离子体生长两种模式； 2、前驱体通道：≥4路； 3、制备材料：AlN、TiN、SiN、TaN等介质薄膜； 4、加工晶片尺寸：8英寸； 5、最高加热温度：≥450℃； 6、温度控制精度：±2℃； 7、膜厚均匀性< 2%。 " | 遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 | 3,* | 2024年04月 | |
| 3 | 松山湖材料实验室高温退火设备采购项目 | 标的名称：高温退火设备 标的数量：1 主要功能或目标：主要用于SiC器件加工中的离子注入高温激活以及电子电力器件制备trench结构的表面平滑化 需满足的要求："1、工艺温度：1200-2000℃； 2、样品规格：4/6寸； 3、样品数量：50片/炉； 4、控温精度：≤±3℃； 5、温度均匀性：<±5℃; 6、工艺均匀性（Rs）：WIW≤2.5%，WTW≤2.5%； 7、轻金属Na、Mg、Al、K、Ca离子污染：≤1.5E11atoms/cm2； 8、重金属Cr、Mn、Fe、Ni、Cu离子污染：≤1E11atoms/cm2。" | 遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 | 6,* | 2024年05月 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
松山湖材料实验室
2024年03月11日
为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕10号）等有关规定，现将本单位2024年03月至2024年05月采购意向公开如下：
| 序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 落实政府采购政策情况 | 预算金额(元) | 预计采购时间 | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 松山湖材料实验室硅外延设备采购项目 | 标的名称：硅外延设备 标的数量：1 主要功能或目标：主要用于6寸 和 8寸基底上MEMS和CIS图像传感器等器件中 N 型及 P 型薄膜材料外延生长，主要包括单晶硅和多晶硅薄膜高温沉积； 需满足的要求： 1、传输模块装有机械手和aligner，实现晶片在传输模块和工艺模块之间的精确传输； 2、实现硅外延工艺的自动控制； 可实现P型和N型掺杂； 3、工艺腔室最高温度：＞1170℃ ； 4、本征单晶硅：≤1E14 atom/cm3； 5、金属污染：＜5E10atom/cm2； 6、8寸厚度均匀性：WIW≤1.5%，RTR≤1%； 7、8寸N型电阻率均匀性：WIW≤2.5%，RTR≤1%。 | 遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 | 9,* | 2024年04月 | |
| 2 | 松山湖材料实验室ALD设备采购项目 | 标的名称：ALD设备 标的数量：1 主要功能或目标：主要用于TiN、SiN等功能材料的原子层沉积，可在平片和高深宽比沟槽、微孔阵列内表面制备均匀的纳米级厚度的功能薄膜，适用于超薄、厚度精确、均匀性好、覆盖性好等方面有很高要求的工艺 需满足的要求："1、配备加热和等离子体生长两种模式； 2、前驱体通道：≥4路； 3、制备材料：AlN、TiN、SiN、TaN等介质薄膜； 4、加工晶片尺寸：8英寸； 5、最高加热温度：≥450℃； 6、温度控制精度：±2℃； 7、膜厚均匀性< 2%。 " | 遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 | 3,* | 2024年04月 | |
| 3 | 松山湖材料实验室高温退火设备采购项目 | 标的名称：高温退火设备 标的数量：1 主要功能或目标：主要用于SiC器件加工中的离子注入高温激活以及电子电力器件制备trench结构的表面平滑化 需满足的要求："1、工艺温度：1200-2000℃； 2、样品规格：4/6寸； 3、样品数量：50片/炉； 4、控温精度：≤±3℃； 5、温度均匀性：<±5℃; 6、工艺均匀性（Rs）：WIW≤2.5%，WTW≤2.5%； 7、轻金属Na、Mg、Al、K、Ca离子污染：≤1.5E11atoms/cm2； 8、重金属Cr、Mn、Fe、Ni、Cu离子污染：≤1E11atoms/cm2。" | 遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 | 6,* | 2024年05月 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
松山湖材料实验室
2024年03月11日
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