A*质谱仪

1. 配置及性能指标要求1.1质量分析器1) 质量分析器类型：三扇形静电飞行时间质量分析器2)※ 低质量时质量分辨率：m/z = 28 (Si+)和29 (SiH+) 的m/？m ≥ 15,0003) 高质量时质量分辨率：m/z > 200的m/？m ≥ 17,0004) ※ 绝缘材料质量分辨率：PET标准样品m/z = 104的m/？m ≥ 15,000（选配Ar/O2枪）；PET标准样品m/z = 104的m/？m ≥ 12,000 （无选配Ar/O2枪）5) 质量范围：1～* amu以上6) 质量精度：&lt; 1 mu for m < 100 u; < 10 ppm for m > 100 u;7)空间分辨率：水平空间分辨率：≤ 50nm；8)灵敏度：m/z = 27时 ≥ 5.5 x 108 Al+ cts / nanocoulomb9)信噪比:对m/z 28.5背底计数比，信噪比≥ 2x105（28Si+）；1.2液态金属铋离子源 LMIG1) 离子束能量范围：15 ~ 30 keV；2)在分析质量范围 m/z 0 –200 时，最大重复率为 25 kHz；3)最大离子束流： Bi初级离子源≥ 30 nA； 4) ※ 最小束斑直径：Bi+ 或Bi3++初级离子束，脉冲模式≤ 50 nm, 聚束模式≤ 0.5 μm （质量分辨率最高的条件下）；5) H峰的脉冲宽度：使用聚束Bi+初级离子源FWHM ≤ 700 ps；1.3样品观察及操控系统1)样品台：高精度计算机控制全自动5-轴样品台2)样品台移动行程：X轴：≥100 mm ；Y轴：≥100 mm ；Z轴：≥ 20 mm； T倾斜轴：+15o ~ -15 o ；R旋转轴：+180 o ~ -180 o 旋转3)样品最大厚度：22 mm4)样品托尺寸：100mm X 100mm5)※ 全自动进样方式：无需借助样品传送杆；1.4UHV 超高真空分析腔室1)UHV系统基础真空指标：烘烤后 2 × 10–7Pa1.5双束荷电中和系统1) ※ 采用低能量脉冲聚焦电子枪和超低能量的离子束对绝缘样品表面的荷电进行双束中和，中和条件自动匹配；2)电荷中和(Ar+ or O2+)3)源类型计算机控制电子轰击源产生Ar+ 或O2+4)束流能量10 eV 到 20eV.5)最大束流 @≥ 1 nA1.6计算机及软件规格1)系统计算机: 系统运行基于Microsoft Windows？ 操作系统，并集成了数据采集和独特设计的系统控制结构实现了高速数据采集和精确的飞行时间测量；2)系统软件用于硬件控制，数据采集，数据分析，实现真正的多任务实时操作。

A*质谱仪

1. 配置及性能指标要求1.1质量分析器1) 质量分析器类型：三扇形静电飞行时间质量分析器2)※ 低质量时质量分辨率：m/z = 28 (Si+)和29 (SiH+) 的m/？m ≥ 15,0003) 高质量时质量分辨率：m/z > 200的m/？m ≥ 17,0004) ※ 绝缘材料质量分辨率：PET标准样品m/z = 104的m/？m ≥ 15,000（选配Ar/O2枪）；PET标准样品m/z = 104的m/？m ≥ 12,000 （无选配Ar/O2枪）5) 质量范围：1～* amu以上6) 质量精度：&lt; 1 mu for m < 100 u; < 10 ppm for m > 100 u;7)空间分辨率：水平空间分辨率：≤ 50nm；8)灵敏度：m/z = 27时 ≥ 5.5 x 108 Al+ cts / nanocoulomb9)信噪比:对m/z 28.5背底计数比，信噪比≥ 2x105（28Si+）；1.2液态金属铋离子源 LMIG1) 离子束能量范围：15 ~ 30 keV；2)在分析质量范围 m/z 0 –200 时，最大重复率为 25 kHz；3)最大离子束流： Bi初级离子源≥ 30 nA； 4) ※ 最小束斑直径：Bi+ 或Bi3++初级离子束，脉冲模式≤ 50 nm, 聚束模式≤ 0.5 μm （质量分辨率最高的条件下）；5) H峰的脉冲宽度：使用聚束Bi+初级离子源FWHM ≤ 700 ps；1.3样品观察及操控系统1)样品台：高精度计算机控制全自动5-轴样品台2)样品台移动行程：X轴：≥100 mm ；Y轴：≥100 mm ；Z轴：≥ 20 mm； T倾斜轴：+15o ~ -15 o ；R旋转轴：+180 o ~ -180 o 旋转3)样品最大厚度：22 mm4)样品托尺寸：100mm X 100mm5)※ 全自动进样方式：无需借助样品传送杆；1.4UHV 超高真空分析腔室1)UHV系统基础真空指标：烘烤后 2 × 10–7Pa1.5双束荷电中和系统1) ※ 采用低能量脉冲聚焦电子枪和超低能量的离子束对绝缘样品表面的荷电进行双束中和，中和条件自动匹配；2)电荷中和(Ar+ or O2+)3)源类型计算机控制电子轰击源产生Ar+ 或O2+4)束流能量10 eV 到 20eV.5)最大束流 @≥ 1 nA1.6计算机及软件规格1)系统计算机: 系统运行基于Microsoft Windows？ 操作系统，并集成了数据采集和独特设计的系统控制结构实现了高速数据采集和精确的飞行时间测量；2)系统软件用于硬件控制，数据采集，数据分析，实现真正的多任务实时操作。