磁控溅射其他仪器仪表-预算金额万元人民币招标预告
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磁控溅射其他仪器仪表-预算金额万元人民币招标预告
| 磁控溅射 | |
| 项目所在采购意向： | 中国科学技术大学2024年7月政府采购意向 |
| 采购单位： | 中国科学技术大学 |
| 采购项目名称： | 磁控溅射 |
| 预算金额： | 300.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*其他仪器仪表 |
| 采购需求概况 ： | 磁控溅射是微纳器件制造、微电子器件制造、光学等领域重要的材料生长设备，应用范围包括介质层、金属互连层、光学膜、高温超导膜、压电薄膜、铁电薄膜等等各种功能性薄膜的沉积与生长。 |
| 预计采购时间： | 2024-07 |
| 磁控溅射 | |
| 项目所在采购意向： | 中国科学技术大学2024年7月政府采购意向 |
| 采购单位： | 中国科学技术大学 |
| 采购项目名称： | 磁控溅射 |
| 预算金额： | 300.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*其他仪器仪表 |
| 采购需求概况 ： | 磁控溅射是微纳器件制造、微电子器件制造、光学等领域重要的材料生长设备，应用范围包括介质层、金属互连层、光学膜、高温超导膜、压电薄膜、铁电薄膜等等各种功能性薄膜的沉积与生长。 |
| 预计采购时间： | 2024-07 |
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