重庆邮电大学2024年5月政府采购意向-芯片晶圆代工
重庆邮电大学2024年5月政府采购意向-芯片晶圆代工
采购项目名称 | 预算金额(万元) | 需求调查概况 | 备注 |
芯片晶圆代工 | 65.00 | 三安集成氮化镓工艺流片及测试,采用 GaN HEMT N25PA13 或更高的GaNHEMTN15PA11工艺流片,技术规格:1)适用于 28V 分立式 &MCM 和 MMIC 器件应用2)16 个掩模层:14 个正面层和 2 个背面层 RCID 是可选层3)双场板:栅极和源极连接场板MIM电容、薄膜电阻器、外延层电阻器4)75 um 背面研磨厚度5)独立软件软件/操作系统结构6)DC Performancea.Max trans-conductance @ VDS=10V Gmmax=350 mS/mm b.Drain current @VGS=2V, VDS=10V IDC_max=1220 mA/mmc.On-state contact resistance Ron=1.8 Ω*mmd.Pinch-off voltage @ VDS=10V,ID=1mA/mm Vp=-3.4 Ve.Breakdown voltage @ VGS=-8V, ID=0.5mA/mm BVDS>85 Vf.Breakdown voltage @ VGS=-8V, ID=1mA/mm BVDS>>120 VBVDS7)S-Parametera)测试条件:Gate width: 6x100um device @ CW SP bench; Bias : Vd=28V, Idq=100mA/mm | 无 |
采购项目名称 | 预算金额(万元) | 需求调查概况 | 备注 |
芯片晶圆代工 | 65.00 | 三安集成氮化镓工艺流片及测试,采用 GaN HEMT N25PA13 或更高的GaNHEMTN15PA11工艺流片,技术规格:1)适用于 28V 分立式 &MCM 和 MMIC 器件应用2)16 个掩模层:14 个正面层和 2 个背面层 RCID 是可选层3)双场板:栅极和源极连接场板MIM电容、薄膜电阻器、外延层电阻器4)75 um 背面研磨厚度5)独立软件软件/操作系统结构6)DC Performancea.Max trans-conductance @ VDS=10V Gmmax=350 mS/mm b.Drain current @VGS=2V, VDS=10V IDC_max=1220 mA/mmc.On-state contact resistance Ron=1.8 Ω*mmd.Pinch-off voltage @ VDS=10V,ID=1mA/mm Vp=-3.4 Ve.Breakdown voltage @ VGS=-8V, ID=0.5mA/mm BVDS>85 Vf.Breakdown voltage @ VGS=-8V, ID=1mA/mm BVDS>>120 VBVDS7)S-Parametera)测试条件:Gate width: 6x100um device @ CW SP bench; Bias : Vd=28V, Idq=100mA/mm | 无 |
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