中国科学院西安光学精密机械研究所2024年5月政府采购意向-反应离子刻蚀机工艺试验机-预算金额万元人民币

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中国科学院西安光学精密机械研究所2024年5月政府采购意向-反应离子刻蚀机工艺试验机-预算金额万元人民币

反应离子刻蚀机
项目所在采购意向: (略) 西安光学精密机械研究所2024年5月政府采购意向
采购单位: (略) 西安光学精密机械研究所
采购项目名称: 反应离子刻蚀机
预算金额: 266.*万元(人民币)
采购品目:
A*工艺试验机
采购需求概况:
反应离子刻蚀机广泛应用于半导体器件、电力电子器件、光电子、太阳能电池、微机械等领域。是微米纳米器件制备的必备设备。随着大规 (略) 制造朝着更高集成度、更小关键尺寸以及更大晶圆半径的方向发展,对刻蚀工艺的精度要求越来越高,所以湿法刻蚀的图形保真性不理想、刻蚀线宽难以控制、表面粗糙等不适用于小尺寸器件刻蚀工艺,而RIE刻蚀具有很好的各向同性,可以加工更加精密的器件,能够保证细小图形转移后的保真性,同时根据不同工艺要求,通过改变刻蚀气体比例、真空室内部压强、射频功率、温度等能够很好的控制侧壁的粗糙度、陡直度、刻蚀速率等,因此,RIE刻蚀机对微纳器件制备至关重要。
预计采购时间: 2024-05
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

,西安, (略)
反应离子刻蚀机
项目所在采购意向: (略) 西安光学精密机械研究所2024年5月政府采购意向
采购单位: (略) 西安光学精密机械研究所
采购项目名称: 反应离子刻蚀机
预算金额: 266.*万元(人民币)
采购品目:
A*工艺试验机
采购需求概况:
反应离子刻蚀机广泛应用于半导体器件、电力电子器件、光电子、太阳能电池、微机械等领域。是微米纳米器件制备的必备设备。随着大规 (略) 制造朝着更高集成度、更小关键尺寸以及更大晶圆半径的方向发展,对刻蚀工艺的精度要求越来越高,所以湿法刻蚀的图形保真性不理想、刻蚀线宽难以控制、表面粗糙等不适用于小尺寸器件刻蚀工艺,而RIE刻蚀具有很好的各向同性,可以加工更加精密的器件,能够保证细小图形转移后的保真性,同时根据不同工艺要求,通过改变刻蚀气体比例、真空室内部压强、射频功率、温度等能够很好的控制侧壁的粗糙度、陡直度、刻蚀速率等,因此,RIE刻蚀机对微纳器件制备至关重要。
预计采购时间: 2024-05
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

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