中国科学院半导体研究所2024年5至12月政府采购意向-等离子体增强化学气相沉积系统电子工业生产设备-预算金额万元人民币
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中国科学院半导体研究所2024年5至12月政府采购意向-等离子体增强化学气相沉积系统电子工业生产设备-预算金额万元人民币
| 等离子体增强化学气相沉积系统 | |
| 项目所在采购意向： | (略) 半导体研究所2024年5至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 半导体研究所 |
| 采购项目名称： | 等离子体增强化学气相沉积系统 |
| 预算金额： | 160.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*-电子工业生产设备 |
| 采购需求概况： | 氮化镓放大器中，需要均匀、高重复性介质膜作为晶体管钝化材料与电容介质。随6G器件频率的提高，晶体管寄生电容值和电容器电容值精度达到飞法级，对介质膜的均匀性要求需达到＜3%；高重复性则决定了放大器设计的准确性，直接影响设计难度与最终放大器性能，因此需求PECVD炉间均匀性达到＜3%。这些元件在提高高频器件的性能、效率和稳定性方面发挥着关键作用。 |
| 预计采购时间： | 2024-08 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 等离子体增强化学气相沉积系统 | |
| 项目所在采购意向： | (略) 半导体研究所2024年5至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 半导体研究所 |
| 采购项目名称： | 等离子体增强化学气相沉积系统 |
| 预算金额： | 160.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*-电子工业生产设备 |
| 采购需求概况： | 氮化镓放大器中，需要均匀、高重复性介质膜作为晶体管钝化材料与电容介质。随6G器件频率的提高，晶体管寄生电容值和电容器电容值精度达到飞法级，对介质膜的均匀性要求需达到＜3%；高重复性则决定了放大器设计的准确性，直接影响设计难度与最终放大器性能，因此需求PECVD炉间均匀性达到＜3%。这些元件在提高高频器件的性能、效率和稳定性方面发挥着关键作用。 |
| 预计采购时间： | 2024-08 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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